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鄭州科佳電爐有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 箱式馬弗爐，管式爐，氣氛爐等 |
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鄭州科佳電爐有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 箱式馬弗爐，管式爐，氣氛爐等 |
| 產(chǎn)品圖片 | 產(chǎn)品名稱 | |||
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KJ-PECVD-1200-50*300-F31200℃PECVD系統(tǒng) 簡(jiǎn)單介紹：產(chǎn)品介紹：PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜 產(chǎn)品型號(hào)：KJ-PECVD-1200-50*300-F3 所在地： 更新時(shí)間：2023-02-23 |
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言 | ||
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KJ-T1200-JCY卷對(duì)卷PECVD設(shè)備 簡(jiǎn)單介紹：產(chǎn)品介紹：卷對(duì)卷式PECVD是等離子增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積設(shè)備（PECVD），并加裝了收放卷裝置 產(chǎn)品型號(hào)：KJ-T1200-JCY 所在地： 更新時(shí)間：2023-02-23 |
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KJ-T1200-PEPECVD系統(tǒng) 簡(jiǎn)單介紹：產(chǎn)品介紹：該產(chǎn)品是由射頻電源、氣體質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、襯底控溫系統(tǒng)、真空系統(tǒng)組成，適用于室溫至1200℃條件下進(jìn)行SiO2、SiNx薄膜的沉積，同時(shí)可實(shí)現(xiàn)TEOS源沉積，SiC膜層沉積以及液態(tài)氣態(tài)源沉積其它材料，尤其適合于有機(jī)材料上高效保護(hù)層膜和特定溫度下無損傷鈍化膜的沉積 產(chǎn)品型號(hào)：KJ-T1200-PE 所在地： 更新時(shí)間：2023-02-23 |
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言 | ||
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KJ-T1200 PECVD混氣PECVD設(shè)備 簡(jiǎn)單介紹：產(chǎn)品描述：KJ-T1200PECVD是一種PECVD（等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積）的管式爐系統(tǒng)，它由500W射頻電源、帶有200毫米直徑石英管的可拆分管式爐、真空泵和三通道質(zhì)量流量計(jì)氣體流動(dòng)系統(tǒng)組成 產(chǎn)品型號(hào)：KJ-T1200 PECVD 所在地： 更新時(shí)間：2023-02-23 |
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KJ-PECVD-D1等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) 簡(jiǎn)單介紹：產(chǎn)品介紹：等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）技術(shù)是借助于輝光放電（等離子體）使含有薄膜組成的氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而實(shí)現(xiàn)薄膜技術(shù)生長(zhǎng)的一種系的制備技術(shù) 產(chǎn)品型號(hào)：KJ-PECVD-D1 所在地： 更新時(shí)間：2023-02-23 |
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KJ-T1200-S60LC-H2石墨烯生長(zhǎng)爐PECVD設(shè)備 簡(jiǎn)單介紹：產(chǎn)品介紹：KJ-T1200-S60LC-H2石墨烯制備機(jī)是由KJ-T1200開啟式滑軌管式爐、真空系統(tǒng)、質(zhì)量流量計(jì)氣路系統(tǒng)、等離子電源系統(tǒng)組成 產(chǎn)品型號(hào)：KJ-T1200-S60LC-H2 所在地： 更新時(shí)間：2023-02-23 |
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KJ-T1200-S6015LK1-4Z5S混氣管式PECVD系統(tǒng) 簡(jiǎn)單介紹：KJ-T1200-S6015LK1-4Z5S多路混氣管式PECVD系統(tǒng)，由KJ-T1200單溫區(qū)管式爐、真空系統(tǒng)、質(zhì)子流量計(jì)、射頻電源系統(tǒng)系統(tǒng)組成 產(chǎn)品型號(hào)：KJ-T1200-S6015LK1-4Z5S 所在地： 更新時(shí)間：2022-01-22 |
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KJ-T1200-S80-DZPECVD-R旋轉(zhuǎn)PECVD系統(tǒng) 簡(jiǎn)單介紹：產(chǎn)品用途：PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜 產(chǎn)品型號(hào)：KJ-T1200-S80-DZPECVD-R 所在地： 更新時(shí)間：2022-01-21 |
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KJ-T1200-S60-6ZH-PE六通道高真空PECVD設(shè)備 簡(jiǎn)單介紹：產(chǎn)品介紹:六通道高真空PECVD系統(tǒng)是一款由1200度管式爐，等離子射頻電源，分子泵高真空，六通道氣路等組成的等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)，加熱腔體采用氧化鋁纖維制品，其極低的熱導(dǎo)率和比熱容，保證了爐膛的快速升溫和低蓄熱，特別適合于科研單位的材料工藝研究 產(chǎn)品型號(hào)：KJ-T1200-S60-6ZH-PE 所在地： 更新時(shí)間：2022-01-21 |
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KJ-T1200-S6044-LK-Z滑道式PECVD系統(tǒng) 簡(jiǎn)單介紹：產(chǎn)品介紹：滑道式PECVD系統(tǒng)由PT-1200T管式爐加熱系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、質(zhì)量流量計(jì)供氣系統(tǒng)、等離子射頻電源系統(tǒng)組成 產(chǎn)品型號(hào)：KJ-T1200-S6044-LK-Z 所在地： 更新時(shí)間：2022-01-21 |
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KJ-T1200-S06LC-YR帶預(yù)熱系統(tǒng)滑動(dòng)式PECVD設(shè)備 簡(jiǎn)單介紹：產(chǎn)品介紹：該設(shè)備是一款帶有預(yù)熱系統(tǒng)的滑動(dòng)PECVD系統(tǒng) 產(chǎn)品型號(hào)：KJ-T1200-S06LC-YR 所在地： 更新時(shí)間：2022-01-21 |
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