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鄭州科佳電爐有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 箱式馬弗爐，管式爐，氣氛爐等 |
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鄭州科佳電爐有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 箱式馬弗爐，管式爐，氣氛爐等 |
| 產(chǎn)品圖片 | 產(chǎn)品名稱 | |||
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PT-CVD-1700-60*300-F3高溫化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) 簡(jiǎn)單介紹：產(chǎn)品介紹：該高溫化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)的工作溫度為300℃至1600℃，配備真空泵，氣體混合裝置 產(chǎn)品型號(hào)：PT-CVD-1700-60*300-F3 所在地： 更新時(shí)間：2023-02-24 |
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KJ-T12001200雙溫區(qū)觸摸屏CVD系統(tǒng) 簡(jiǎn)單介紹：簡(jiǎn)介：KJ-T1200CVD是一種管式爐，配備60mm直徑氧化鋁管、真空泵和四通道質(zhì)量流量計(jì)+一個(gè)浮子流量計(jì)氣體流動(dòng)系統(tǒng) 產(chǎn)品型號(hào)：KJ-T1200 所在地： 更新時(shí)間：2023-02-23 |
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KJ-PECVD-1200-50*300-F31200℃PECVD系統(tǒng) 簡(jiǎn)單介紹：產(chǎn)品介紹：PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜 產(chǎn)品型號(hào)：KJ-PECVD-1200-50*300-F3 所在地： 更新時(shí)間：2023-02-23 |
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KJ-T1200-JCY卷對(duì)卷PECVD設(shè)備 簡(jiǎn)單介紹：產(chǎn)品介紹：卷對(duì)卷式PECVD是等離子增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積設(shè)備（PECVD），并加裝了收放卷裝置 產(chǎn)品型號(hào)：KJ-T1200-JCY 所在地： 更新時(shí)間：2023-02-23 |
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KJ-T1600 CVD1600 CVD 系統(tǒng) 簡(jiǎn)單介紹：產(chǎn)品介紹：KJ-CVD是一種分體式管式爐，配備60mm直徑的石英管、真空泵和四通道質(zhì)量流量計(jì)氣體流動(dòng)系統(tǒng) 產(chǎn)品型號(hào)：KJ-T1600 CVD 所在地： 更新時(shí)間：2023-02-23 |
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KJ-T1200-PEPECVD系統(tǒng) 簡(jiǎn)單介紹：產(chǎn)品介紹：該產(chǎn)品是由射頻電源、氣體質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、襯底控溫系統(tǒng)、真空系統(tǒng)組成，適用于室溫至1200℃條件下進(jìn)行SiO2、SiNx薄膜的沉積，同時(shí)可實(shí)現(xiàn)TEOS源沉積，SiC膜層沉積以及液態(tài)氣態(tài)源沉積其它材料，尤其適合于有機(jī)材料上高效保護(hù)層膜和特定溫度下無(wú)損傷鈍化膜的沉積 產(chǎn)品型號(hào)：KJ-T1200-PE 所在地： 更新時(shí)間：2023-02-23 |
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KJ-T1200-S4401200度CVD設(shè)備 簡(jiǎn)單介紹：產(chǎn)品介紹：KJ-T1200CVD是一種管式爐，配備100mm直徑石英管、真空泵和五通道質(zhì)量流量計(jì)氣體流動(dòng)系統(tǒng) 產(chǎn)品型號(hào)：KJ-T1200-S440 所在地： 更新時(shí)間：2023-02-23 |
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KJ-T1200 PECVD混氣PECVD設(shè)備 簡(jiǎn)單介紹：產(chǎn)品描述：KJ-T1200PECVD是一種PECVD（等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積）的管式爐系統(tǒng)，它由500W射頻電源、帶有200毫米直徑石英管的可拆分管式爐、真空泵和三通道質(zhì)量流量計(jì)氣體流動(dòng)系統(tǒng)組成 產(chǎn)品型號(hào)：KJ-T1200 PECVD 所在地： 更新時(shí)間：2023-02-23 |
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KJ-PECVD-D1等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) 簡(jiǎn)單介紹：產(chǎn)品介紹：等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）技術(shù)是借助于輝光放電（等離子體）使含有薄膜組成的氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而實(shí)現(xiàn)薄膜技術(shù)生長(zhǎng)的一種系的制備技術(shù) 產(chǎn)品型號(hào)：KJ-PECVD-D1 所在地： 更新時(shí)間：2023-02-23 |
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KJ-T1200-W2雙爐體CVD設(shè)備 簡(jiǎn)單介紹：產(chǎn)品介紹：該雙爐體CVD系統(tǒng)為定制款，適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測(cè)試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長(zhǎng)、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結(jié)等實(shí)驗(yàn) 產(chǎn)品型號(hào)：KJ-T1200-W2 所在地： 更新時(shí)間：2023-02-23 |
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KJ-OTF-1700-F5三溫區(qū)CVD設(shè)備 簡(jiǎn)單介紹：產(chǎn)品特點(diǎn)：1、控制電路選用模糊PID程控技術(shù)，該技術(shù)控溫精度高，熱慣性小，溫度不過(guò)沖，性能可靠，操作簡(jiǎn)單 產(chǎn)品型號(hào)：KJ-OTF-1700-F5 所在地： 更新時(shí)間：2023-02-23 |
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KJ-T1600 -3M3通道CVD設(shè)備 簡(jiǎn)單介紹：簡(jiǎn)單介紹：KJ-T1600CVD是一種管式爐，具有80mm直徑的氧化鋁管和三通道質(zhì)量流量計(jì)氣體流動(dòng)系統(tǒng) 產(chǎn)品型號(hào)：KJ-T1600 -3M 所在地： 更新時(shí)間：2023-02-23 |
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KJ-T1200-S60LC-H2石墨烯生長(zhǎng)爐PECVD設(shè)備 簡(jiǎn)單介紹：產(chǎn)品介紹：KJ-T1200-S60LC-H2石墨烯制備機(jī)是由KJ-T1200開啟式滑軌管式爐、真空系統(tǒng)、質(zhì)量流量計(jì)氣路系統(tǒng)、等離子電源系統(tǒng)組成 產(chǎn)品型號(hào)：KJ-T1200-S60LC-H2 所在地： 更新時(shí)間：2023-02-23 |
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KJ-1200T-S60LK3-3FZ1200度三溫區(qū)CVD管式爐 簡(jiǎn)單介紹：產(chǎn)品介紹：KJ-1200T-S60LK3-3FZ型CVD管式爐由KJ-T1200管式爐+真空系統(tǒng)+供氣系統(tǒng)組成，溫度可以達(dá)到1200度,可以是單溫區(qū)、雙溫區(qū)、三溫區(qū)等，極限真空可以達(dá)到10-3Pa，供氣系統(tǒng)是流量調(diào)節(jié)可以是質(zhì)子流量計(jì)或浮子流量計(jì)，混氣路數(shù)可以是2路、3路、4路、5路相混合 產(chǎn)品型號(hào)：KJ-1200T-S60LK3-3FZ 所在地： 更新時(shí)間：2022-01-22 |
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KJ-T1200-S6012LK1-3FH5S1200℃高溫真空CVD設(shè)備 簡(jiǎn)單介紹：產(chǎn)品介紹：KJ-T1200-S6012LK1-3FH5S型高溫真空CVD設(shè)備由KJ-T1200滑動(dòng)式快速退火管式爐+真空系統(tǒng)+供氣系統(tǒng)組成 產(chǎn)品型號(hào)：KJ-T1200-S6012LK1-3FH5S 所在地： 更新時(shí)間：2022-01-22 |
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KJ-T1200-S6015LK1-4Z5S混氣管式PECVD系統(tǒng) 簡(jiǎn)單介紹：KJ-T1200-S6015LK1-4Z5S多路混氣管式PECVD系統(tǒng)，由KJ-T1200單溫區(qū)管式爐、真空系統(tǒng)、質(zhì)子流量計(jì)、射頻電源系統(tǒng)系統(tǒng)組成 產(chǎn)品型號(hào)：KJ-T1200-S6015LK1-4Z5S 所在地： 更新時(shí)間：2022-01-22 |
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KJ-1200T-S6012LK1-4Z5S1200℃石墨烯生長(zhǎng)爐 簡(jiǎn)單介紹：產(chǎn)品介紹：KJ-T1200-S6012LK1-4Z5S型石墨烯生長(zhǎng)爐由KJ-1200T管式爐+真空系統(tǒng)+供氣系統(tǒng)+水冷系統(tǒng)組成，溫度可以達(dá)到1200度,可以是單溫區(qū)、雙溫區(qū)、三溫區(qū)等，極限真空可以達(dá)到10-3Pa，供氣系統(tǒng)是流量調(diào)節(jié)可以是質(zhì)子流量計(jì)或浮子流量計(jì)，混氣路數(shù)可以是2路、3路、4路、5路相混合 產(chǎn)品型號(hào)：KJ-1200T-S6012LK1-4Z5S 所在地： 更新時(shí)間：2022-01-22 |
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KJ-T1200-S60K-4C四路高溫真空CVD設(shè)備 簡(jiǎn)單介紹：產(chǎn)品介紹：KJ-T1200-S60K-4C型四路高溫真空CVD設(shè)備由KJ-T1200滑動(dòng)式快速退火管式爐+真空系統(tǒng)+供氣系統(tǒng)組成，溫度可以達(dá)到1200度，極限真空可以達(dá)到10-3Pa，供氣系統(tǒng)是流量調(diào)節(jié)可以是質(zhì)子流量計(jì)，可以對(duì)多種氣體進(jìn)行精確的混氣，然后導(dǎo)入到管式爐內(nèi)部 產(chǎn)品型號(hào)：KJ-T1200-S60K-4C 所在地： 更新時(shí)間：2022-01-21 |
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KJ-M1200(1400/1700)-Z箱式化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) 簡(jiǎn)單介紹：產(chǎn)品介紹：液壓鐘罩氣氛爐采用爐體和智能控制一體化設(shè)計(jì)，整個(gè)爐體美觀、大方 產(chǎn)品型號(hào)：KJ-M1200(1400/1700)-Z 所在地： 更新時(shí)間：2022-01-21 |
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KJ-T1200-S80-DZPECVD-R旋轉(zhuǎn)PECVD系統(tǒng) 簡(jiǎn)單介紹：產(chǎn)品用途：PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜 產(chǎn)品型號(hào)：KJ-T1200-S80-DZPECVD-R 所在地： 更新時(shí)間：2022-01-21 |
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