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山東德瑞克儀器股份有限公司

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DRK-W系列激光粒度分析儀

參  考  價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號

品       牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地濟南市

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更新時間:2024-09-24 07:36:42瀏覽次數(shù):178次

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DRK-W系列激光粒度分析儀的高品質(zhì)和所測樣品的廣泛性使得它在實驗室的實驗研究和工業(yè)生產(chǎn)的質(zhì)量控制等諸多領(lǐng)域中得到了廣泛的應用。例如:材料、化工、制藥、精細陶瓷、建材、石油、電力、冶金、食品、化妝品、高分子、油漆、涂料、碳黑、高嶺土、氧化物、碳酸鹽、金屬粉末、耐火材料、添加劑等以顆粒物作為生產(chǎn)原材料、產(chǎn)品、中間體等。

產(chǎn)品細節(jié)

隨著科學技術(shù)的日益進步和發(fā)展,在國民經(jīng)濟的許多部門,如能源、動力、機械、醫(yī)藥、化工、輕工、冶金、建材等行業(yè)中都出現(xiàn)了越來越多的細微顆粒密切相關(guān)的技術(shù)問題有待解決,顆粒粒徑大小的測量是其中最基本也是最重要的一個方面。許多情況下,顆粒粒徑大小不僅直接影響到產(chǎn)品的性能與質(zhì)量,而且對工藝過程的優(yōu)化、能源消耗的降低、環(huán)境污染的減少等都有重大的關(guān)聯(lián)。 近年來,與、國防工業(yè)、軍事科學等密切相關(guān)的各種新型顆粒材料,特別是超細納米顆粒的問世和利用,給顆粒粒徑的測量提出了新的和更高的要求,不但要求快速、自動化數(shù)據(jù)處理、而且也要求提供可靠的更豐富的數(shù)據(jù)和更有用的信息,以滿足科研領(lǐng)域和工業(yè)質(zhì)量控制方面應用的需要。TS-W系列激光粒度分析儀正是為了滿足用戶上述新要求而精心研制開發(fā)的一代激光粒度分析儀。該儀器集激光技術(shù)、半導體技術(shù)、光電技術(shù)、微電子技術(shù)和計算機技術(shù)的應用,綜合了光、機、電、計算機于一體,以光散射理論為基礎的顆粒粒徑測量技術(shù)突出的優(yōu)點逐步取代了一些傳統(tǒng)的常規(guī)測量方法,必將成為一代新穎的顆粒粒徑測量儀器。并且在科研領(lǐng)域和工業(yè)質(zhì)量控制的粒度分布分析中發(fā)揮著越來越大的作用。

DRK-W系列激光粒度分析儀的高品質(zhì)和所測樣品的廣泛性使得它在實驗室的實驗研究和工業(yè)生產(chǎn)的質(zhì)量控制等諸多領(lǐng)域中得到了廣泛的應用。例如:材料、化工、制藥、精細陶瓷、建材、石油、電力、冶金、食品、化妝品、高分子、油漆、涂料、碳黑、高嶺土、氧化物、碳酸鹽、金屬粉末、耐火材料、添加劑等以顆粒物作為生產(chǎn)原材料、產(chǎn)品、中間體等。

技術(shù)特點:

1.的半導體制冷恒溫控制綠色固體激光器做光源,波長短、體積小、工作穩(wěn)定、壽命長;

2.設計大直徑光靶,保證測量范圍大,0.1-1000微米全測量范圍內(nèi)不需要更換鏡頭或移動樣品池;

3.集多年研究之成果,米氏理論的應用;

4.反演算法,保證顆粒測量的準確;

5.USB接口,儀器與計算機一體化,內(nèi)嵌10.8寸工業(yè)級別的電腦,可連接鍵盤、鼠標、U盤

6.測量時循環(huán)樣品池或固定樣品池可選,兩者可根據(jù)需要換用;

7.樣品池模塊化設計,更換模塊可實現(xiàn)不同的測試模式;循環(huán)樣品池內(nèi)置超聲分散裝置,可有效分散團聚顆粒

8.樣品測量可自動化,除添加樣品外,只要連接好蒸餾水進水管和排水管,進水、測量、排水、清洗,啟動超聲分散裝置等操作可自動進行,同時也提供手動測量菜單;

9.軟件個性化,提供測量向?qū)У缺姸喙δ?,方便用戶操作?/span>

10.測量結(jié)果輸出數(shù)據(jù)豐富,保存在數(shù)據(jù)庫中,能用任意參數(shù),如操作者姓名,樣品名,日期,時間等進行調(diào)用分析,與其他軟件實現(xiàn)數(shù)據(jù)共享;

11.儀器造型美觀,體積小重量輕;

12.測量精度高,重復性好,測量時間短;

13.軟件提供眾多物質(zhì)折射率供用戶選擇,滿足用戶查找被測顆粒折射率要求;

14.考慮到測試結(jié)果的保密要求,只有操作者才能進入相應數(shù)據(jù)庫讀取數(shù)據(jù)和處理;

15.本儀器符合但并不局限于以下標準:

ISO 13320-2009     G/BT 19077.1-2008 粒度分析 激光衍射法

技術(shù)參數(shù):

型號

DRK-W1

DRK-W2

DRK-W3

DRK-W4

理論依據(jù)

Mie散射理論

粒徑測量范圍

0.1-200um

0.1-400um

0.1-600um

0.1-1000um

光源

半導體制冷恒溫控制紅光固體激光光源,波長635nm

重復性誤差

<1%(標準D50偏差)

測量誤差

<1%(標準D50偏差,用國家標準顆粒檢驗)

檢測器

32或48通道硅光電二極管

樣品池

固定樣品池、循環(huán)樣品池(內(nèi)置超聲分散裝置)

測量分析時間

正常條件下小于1分鐘(從開始測量到顯示分析結(jié)果)

輸出內(nèi)容

體積、數(shù)量微分分布和累積分布表和圖表;多種統(tǒng)計平均直徑;操作者信息;實驗樣品信息、分散介質(zhì)信息等。

顯示方式

內(nèi)嵌10.8寸工業(yè)級別的電腦,可連接鍵盤、鼠標、U盤

電腦系統(tǒng)

WIN 10系統(tǒng),30GB硬盤容量、2GB系統(tǒng)內(nèi)存

電源

220V,50 Hz

工作條件:

1.室內(nèi)溫度:15℃-35℃

2.相對溫度:不大于85%(無冷凝)

3.建議用交流穩(wěn)壓電源1KV,無強磁場干擾。

4.由于在微米級的范圍內(nèi)的測量,儀器應放在堅固可靠、無振動的工作臺上,并且在少塵條件下進行測量。

5.儀器不應放在太陽直射、風大或溫度變化大的場所。

6.設備必須接地,保證安全和高精度。

7.室內(nèi)應清潔、防塵、無腐蝕性氣體。

 

 注:因技術(shù)進步更改資料,恕不另行通知,產(chǎn)品以后期實物為準。


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