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鄭州偉創(chuàng)檢測(cè)設(shè)備有限公司
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更新時(shí)間：2024-07-27 13:04:31瀏覽次數(shù)：118次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來自 食品機(jī)械設(shè)備網(wǎng)應(yīng)用領(lǐng)域廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機(jī)械、汽車制造、航空航天、兵器、金屬加工等領(lǐng)域的生產(chǎn)工藝控制，爐前化驗(yàn)，中心實(shí)驗(yàn)室成品檢驗(yàn)
應(yīng)用領(lǐng)域
廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機(jī)械、汽車制造、航空航天、兵器、金屬加工等領(lǐng)域的生產(chǎn)工藝控制，爐前化驗(yàn)，中心實(shí)驗(yàn)室成品檢驗(yàn)。CX-9500充氬式全譜直讀光譜儀體積小、穩(wěn)定性好、檢測(cè)限低、分析速度快、運(yùn)行成本低、操作維護(hù)方便。
1、數(shù)字化技術(shù)替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術(shù)、通道不受限制 ；
2、基體范圍內(nèi)通道改變、增加不需費(fèi)用
3、升級(jí)多基體方便，無須變動(dòng)增加硬件 ；
4、優(yōu)良的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性，同一樣品不同的時(shí)間段分析，可獲得良好的數(shù)據(jù)一致性 ；
5、體積小、重量輕， 移動(dòng)安裝方便 ；
主要特點(diǎn)：
· 1、可測(cè)定包括痕量碳（C），磷（P）,硫（S）元素,適用于多種金屬基體，如：鐵基，鋁基，銅基，鎳基，鉻基，鈦 基，鎂基，鋅基，錫基和鉛基。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍，可根據(jù)客戶需要選擇通道元素；
· 2、分析速度快捷，20秒內(nèi)測(cè)完所有通道的元素成分。針對(duì)不同的分析材料，通過設(shè)置預(yù)燃時(shí)間及標(biāo)線，使儀器用短的時(shí)間達(dá)到優(yōu)的分析效果；
· 3、光學(xué)系統(tǒng)采用充氬恒溫光室， 激發(fā)時(shí)產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入光室，實(shí)現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗，提高檢出限，測(cè)定結(jié)果準(zhǔn)確，重現(xiàn)性及長(zhǎng)期穩(wěn)定性佳；
· 4、特殊的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，使光室容積更小，充氬速度不到普通光譜儀的一半；
· 5、自動(dòng)光路校準(zhǔn)，光學(xué)系統(tǒng)自動(dòng)進(jìn)行譜線掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動(dòng)識(shí)別特定譜線，與原存儲(chǔ)線進(jìn)行對(duì)比，確定漂移位置，找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測(cè)定；
· 6、開放式的電極架設(shè)計(jì)，可以調(diào)整的樣品夾，便于各種形狀和尺寸的樣品分析；
· 7、工作曲線采用國(guó)際標(biāo)樣，預(yù)做工作曲線，可根據(jù)需要延伸及擴(kuò)展范圍，每條曲線由多達(dá)幾十塊標(biāo)樣激發(fā)生成，自動(dòng)扣除干擾；
· 8、HEPS數(shù)字化固態(tài)光源，適應(yīng)各種不同材料 ；
· 9、固態(tài)吸附阱，防止油氣對(duì)光室的污染，提高長(zhǎng)期運(yùn)行穩(wěn)定性；
· 10、銅火花臺(tái)底座，提高散熱性及堅(jiān)固性能；
· 11、合理的氬氣氣路設(shè)計(jì)，使樣品激發(fā)時(shí)氬氣沖洗時(shí)間縮短，為用戶節(jié)省氬氣；
· 12、采用鎢材料電極，電極使用壽命更長(zhǎng)，并設(shè)計(jì)了電極自吹掃功能，清潔電極更加容易；
· 13、高性能DSP及ARM處理器，具有高速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動(dòng)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)光室溫度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運(yùn)行狀況；
· 14、儀器與計(jì)算機(jī)之間采用以太網(wǎng)連接，抗干擾性能好，外部計(jì)算機(jī)升級(jí)與儀器配置無關(guān)，使儀器具有更好的適用性；
·
光學(xué)系統(tǒng) | |
光學(xué)結(jié)構(gòu) | 帕邢-龍格結(jié)構(gòu)的全譜真空型光學(xué)系統(tǒng) |
光室溫度 | 自動(dòng)控制恒溫：35℃±0.5℃ |
波長(zhǎng)范圍 | 160-800nm |
光柵焦距 | 300 mm |
光柵刻線 | 3600 l/mm |
YI級(jí)光譜線色散率 | 1.2 nm/mm |
探測(cè)器 | 多塊高性能線陣CCD |
平均分辨率 | 30pm/pixel |
激發(fā)臺(tái) | |
氣 體 | 沖氬式 |
氬氣流量 | 激發(fā)時(shí)3-5L/min， 待機(jī)時(shí):無須待機(jī)流量 |
電 極 | 鎢材噴射電極技術(shù) |
吹 掃 | 點(diǎn)擊自吹掃功能 |
補(bǔ) 償 | 熱變形自補(bǔ)償設(shè)計(jì) |
分析間隙 | 樣品臺(tái)分析間隙：4mm |
激發(fā)光源 | |
類 型 | HEPS數(shù)字化固態(tài)光源 |
頻 率 | 100-1000Hz |
放電電流 | 1-80A |
特殊技術(shù) | 放電參數(shù)優(yōu)化設(shè)計(jì) |
預(yù) 燃 | 高能預(yù)燃技術(shù) |
數(shù)據(jù)采集系統(tǒng) | |
處理器 | ARM處理器，高速數(shù)據(jù)同步采集處理 |
接 口 | 基于DM9000A的以太數(shù)據(jù)傳輸 |
電源與環(huán)境要求 | |
輸 入 | 220VAC 50Hz |
功 率 | 分析時(shí)700W，待機(jī)狀態(tài)40W |
工作溫度 | 10-30℃（該溫度范圍內(nèi)溫度變化不大于5℃/h） |
工作濕度 | 20-80% |
尺寸與重量 | |
主機(jī)尺寸 | 700*660*340 mm |
重 量 | 約30Kg |
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