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LPCVD低壓化學氣相淀積設備 湯鍋爐 詳細摘要： LPCVD低壓化學氣相淀積設備式在低壓條件下使氣態(tài)化合物在基片表面反應并淀積形成穩(wěn)定固體薄膜。由于工作壓力低，氣體分子的平均自由程和擴散系數(shù)大，故可采用密集裝片...
產品型號： 所在地：青島市 更新時間：2023-04-19 參考價： 面議 在線留言
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青島微弘設備技術有限公司 |
詳細摘要： LPCVD低壓化學氣相淀積設備式在低壓條件下使氣態(tài)化合物在基片表面反應并淀積形成穩(wěn)定固體薄膜。由于工作壓力低，氣體分子的平均自由程和擴散系數(shù)大，故可采用密集裝片...
產品型號： 所在地：青島市 更新時間：2023-04-19 參考價： 面議 在線留言