光氧凈化設(shè)備利用   的   光束照射惡臭氣體，裂解惡臭氣體如：氨、胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu)，使或無機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈，在   紫外線光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。

光氧凈化設(shè)備利用   高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。

UV＋O2→O-+O＊(活性氧)O+O2→O3(臭氧)，臭氧對物具有的氧化作用，對惡臭氣體及其它刺激性異味有的   效果。

惡臭氣體利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運(yùn)用   C波光束及臭氧對惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風(fēng)管道排出室外。

光氧凈化設(shè)備利用   UV光束裂解惡臭氣體中的分子鍵，破壞的核酸（DNA），再通過臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，   達(dá)到脫臭及殺滅的目的。

光氧凈化設(shè)備設(shè)備性能特點(diǎn)：

1、   除惡臭：能   去除揮發(fā)性物（VOC）及各種惡臭味，脫臭可達(dá)以上。

2、無需添加任何物質(zhì)：只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動力。

3、適應(yīng)性強(qiáng)：可適應(yīng)高濃度，大氣量，可每天24小時連續(xù)工作，運(yùn)行穩(wěn)定。

4、運(yùn)行成本低：本設(shè)備無任何機(jī)械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護(hù)。

5、無需預(yù)處理：工作環(huán)境溫度在攝氏-30℃～95℃之間，濕度在30%～、PH值在3-13之間均可正常工作。

6、設(shè)備占地面積小，自重輕：處理10000m3/h風(fēng)量設(shè)備占地面積<1平方米。

7、   材料制造：、、性能高，設(shè)備性能   穩(wěn)定。

8、環(huán)保產(chǎn)品：采用技術(shù)，可   分解惡臭氣體中物質(zhì)，并能達(dá)到脫臭效果，經(jīng)分解后的惡臭氣體，可   達(dá)到化排放，產(chǎn)生二次污染。

光氧凈化設(shè)備的技術(shù)參數(shù)：

1、處理風(fēng)量：2000m3/h---100000m3/h；

2、廢氣凈化效率：≥；

3、設(shè)備阻力：≤300Pa；

4、電源電壓：220V50HZ；

5、電功率：500W-6000W；

6、備噪聲：≤45Db。