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GMD2000超高速納米研磨分散機(jī)
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- GMD2000 產(chǎn)品型號
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- 上海市 所在地
訪問次數(shù):625更新時間:2024-06-28 20:07:34
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產(chǎn)品簡介
1、乳化頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)
2、乳化頭的剪切速率(越大,效果越好)
3、乳化頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細(xì)齒,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)
4、物料在分散墻體的停留時間,乳化分散時間(可以看作
產(chǎn)品介紹
超高速納米研磨分散機(jī),高剪切超細(xì)研磨分散機(jī),超細(xì)乳化設(shè)備,進(jìn)口研磨分散機(jī),對于研磨分散機(jī)來說zui大的一個目的就是要達(dá)到乳化的效果,那么從設(shè)備角度來說影響乳化效果的因素有哪些呢?
1、乳化頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)
2、乳化頭的剪切速率(越大,效果越好)
3、乳化頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細(xì)齒,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)
4、物料在分散墻體的停留時間,乳化分散時間(可以看作同等的電機(jī),流量越小,效果越好)。
5、循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)
另外線速度是衡量設(shè)備效果的一個重要的指標(biāo)
線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
–剪切速率 (s-1) = v速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
–轉(zhuǎn)子的線速率
–在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V=3.14 XD(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM/60
上海思峻自主研發(fā)生產(chǎn)的超細(xì)研磨分散機(jī),具有高轉(zhuǎn)速、低能耗、低噪音、高壽命等優(yōu)勢,經(jīng)過SGN全體研發(fā)生產(chǎn)部員工的不懈努力,終于解決了SGN高剪切研磨分散機(jī)的提速問題。市場上一般使用的研磨分散機(jī)由于定轉(zhuǎn)子精度以及機(jī)械密封的原因,轉(zhuǎn)速zui高只能達(dá)到2910轉(zhuǎn),而SGN研發(fā)的立式分體式研磨分散機(jī)將轉(zhuǎn)速提高到9000轉(zhuǎn),從而更好的解決了市場的需求。
超高速納米研磨分散機(jī),主要用于微乳液及超細(xì)懸浮液的生產(chǎn)。由于工作腔體內(nèi)三組分散頭(定子+轉(zhuǎn)子)同時工作,乳液經(jīng)過高剪切后,液滴更細(xì)膩,粒徑分布更窄,因而生成的混合液穩(wěn)定性更好。三組分散頭均易于更換,適合不同的工藝應(yīng)用。該系列中不同的型號的機(jī)器都有相同的線速度和剪切率,非常易于擴(kuò)大生產(chǎn)。適宜的溫度,壓力與粘度參數(shù)與DSSPERSSNG一樣。也符合GSP/SSP清潔標(biāo)準(zhǔn),適合食品及醫(yī)藥生產(chǎn)。
納米研磨分散機(jī)的特點:具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性;該設(shè)備可以適用于各種分散乳化工藝,也可用于生產(chǎn)包括對乳狀液、懸浮液和膠體的均質(zhì)混合;三級研磨分散機(jī)由定、轉(zhuǎn)子系統(tǒng)所產(chǎn)生的剪切力使得溶質(zhì)轉(zhuǎn)移速度增加,從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。