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上海新浪輕工機(jī)械設(shè)備有限公司

主營產(chǎn)品: 真空乳化機(jī)系列;攪拌機(jī)系列;香水制造設(shè)備;灌裝機(jī);輸送臺;貼標(biāo)機(jī);膠體麿;貯罐;反滲透水處理;實驗室設(shè)備...

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公司信息

聯(lián)人:
孫經(jīng)理
址:
上海市奉賢區(qū)鄔橋鎮(zhèn)安鄔路139號
編:
201101
鋪:
http://www.hg0881.cn/st150959/
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NKSD2000高剪切色素膠體磨
高剪切色素膠體磨
參考價2000-50000
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號

    NKSD2000
  • 品牌

    其他品牌
  • 廠商性質(zhì)

    生產(chǎn)商
  • 所在地

    上海市

更新時間:2023-04-21 14:18:33瀏覽次數(shù):704

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【簡單介紹】
生產(chǎn)能力 10-12000kg/h 應(yīng)用領(lǐng)域 食品工業(yè)
高剪切色素膠體磨:色素現(xiàn)在常用的食品色素包括兩類:天然色素與人工合成色素。天然色素來自天然物,主要由植物組織中提取,也包括來自動物和微生物的一些色素。人工合成色素是指用人工化學(xué)合成方法所制得的有機(jī)色素,主要是以煤焦油中分離出來的苯胺染料為原料制成的。
【詳細(xì)說明】

高剪切色素膠體磨 色素膠體磨,,色素管線式膠體磨,香精色素均質(zhì),高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,新浪公司在NK2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出NKSD2000超高速剪切乳化機(jī)機(jī)。其剪切速率可以超過200.00 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到66m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強(qiáng),乳液的粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度*,無需其他輔助分散設(shè)備,可以達(dá)到普通的高壓膠體磨的400BAR壓力下的顆粒大小。
             
高剪切色素膠體磨:色素現(xiàn)在常用的食品色素包括兩類:天然色素與人工合成色素。天然色素來自天然物,主要由植物組織中提取,也包括來自動物和微生物的一些色素。人工合成色素是指用人工化學(xué)合成方法所制得的有機(jī)色素,主要是以煤焦油中分離出來的苯胺染料為原料制成的。

 色素處理的難點在于如何將物料處理的更小,顆粒要達(dá)到1UM以下 一把的工業(yè)方式采用高壓膠體磨,但是高壓膠體磨耗電,容易損耗,而且壓力不穩(wěn)定,而我們的超高速膠體磨,轉(zhuǎn)速可以達(dá)到21000轉(zhuǎn),線速度可以達(dá)到66M/S,效果比一般的高壓膠體磨要好。


影響分散乳化結(jié)果的因素有以下幾點


1 乳化頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)

2 乳化頭的剪切速率  (越大,效果越好)

3 乳化頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細(xì)齒,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)

4  物料在分散墻體的停留時間,乳化分散時間(可以看作同等的電機(jī),流量越小,效果越好)

5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

– 剪切速率 (s-1) =       v  速率 (m/s)                 g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

– 轉(zhuǎn)子的線速率

– 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 shsina 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60


  超高速分散均質(zhì)乳化機(jī)的高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,新浪公司在NK2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出NKSD2000超高速剪切乳化機(jī)機(jī)。其剪切速率可以超過200.00 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到66m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強(qiáng),乳液的粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度*,無需其他輔助分散設(shè)備,可以達(dá)到普通的高壓膠體磨的400BAR壓力下的顆粒大小.





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