壓電陶瓷極化裝置

產(chǎn)品介紹

   華測儀器生產(chǎn)的高壓極化裝置系列是針對壓電陶瓷設(shè)計的高壓極化裝置，壓電陶瓷極化裝置是我公司研發(fā)生產(chǎn)于電極化設(shè)備中的高壓電源，電源內(nèi)部采用PWM控制技術(shù)及模塊化電路設(shè)計，具有輸出高壓穩(wěn)定，轉(zhuǎn)換效率大于80%，時漂、溫漂優(yōu)于0.1%，抗干擾性能強等特點，且結(jié)構(gòu)堅固，使用安全、方便，易于維護。

   高壓極化是指在外電場作用下，電介質(zhì)內(nèi)部沿電場方向產(chǎn)生感應(yīng)偶極矩，在電介質(zhì)表面出現(xiàn)極化電荷，該現(xiàn)象就是電介質(zhì)的極化。高壓極化電源為電介質(zhì)極化提供外加電場，作為極化設(shè)備被廣泛應(yīng)用于各類電介質(zhì)（如壓電陶瓷等）的極化之中?？梢詫Σ煌牧希穸鹊奶沾蓸悠愤M行4路同步極化，多路同時極化時，每路可設(shè)置不同的極化電壓和電壓時間，并且每路極化互不影響；具有安全互鎖功能，取樣和放樣時，高壓切斷，并采用隔離屏蔽技術(shù)，確保實驗人員安全；智能化監(jiān)測，可監(jiān)測整個極化過程，自動保存測量數(shù)據(jù)。

產(chǎn)品特點

n采用集成一體設(shè)計，操作簡單便捷；

n一鍵啟動，輕松完成極化測量過程；

n具有智能化檢測功能，使極化過程更安全；

n通過智能監(jiān)測功能觀察極化電流，可以幫助您找到極化條件，達到極化效果；

n具有三種模式選擇，恒壓極化、階梯電壓極化和階梯電壓脈沖極化；

n升壓極化模式可實現(xiàn)自動調(diào)整升壓速率；

n階梯電壓極化模式，實現(xiàn)多段電壓和時間的梯形升壓極化，能更好的的分析整個極化過程；

n階梯電壓脈沖極化模式，實現(xiàn)多段電壓和時間以方波的形式極化樣品；

n每路具有獨立的高壓輸出，TVS擊穿電流保護、互不影響；

n每路具有監(jiān)測、電流保護、切斷功能和報警提示功能；

n針對不同樣品可設(shè)置不同極化模式，可實現(xiàn)多種極化需求；

n每路具有獨立電流顯示，完成獨立的數(shù)據(jù)存儲；

高壓極化電源

   華測HA系列高壓電源是高性能機箱式高壓電源，HA系列具有完善的保護系統(tǒng)?？蛇b控或本地控制，前面板有電壓、電流顯示，高壓輸入端過壓、過流、短路保護、拉弧、過溫保護和安全鎖等功能。寬范圍調(diào)整和靈活的多項可選功能。

安全高效的試驗

   安全是實驗重要的前提條件，華測推出的HCJH系列充分考慮安全性，具有安全互鎖功能，采用隔離屏蔽技術(shù)，確保人員安全。

4路獨立控制

   內(nèi)置4個獨立的高壓電源模塊，可4路同時極化，每路互不干擾；每路設(shè)置過載電流保護，負載超過點流量時自動切斷電源。

多種試驗方式為一體

   具有升壓極化、階梯電壓極化和階梯脈沖電壓極化模式，多種極化模式的選擇，可滿足不同樣品的極化條件。

軟件功能

   HC5000系列測試系統(tǒng)的軟件平臺hacepro，采用labview系統(tǒng)開發(fā)，符合壓電陶瓷極化性能的各項測試需求，具備強大的的穩(wěn)定性與安全性，并具備斷電資料的保存功能，圖像資料可保存恢復(fù)，支持標準。兼容，XP、win7、win10系統(tǒng)。

多語介面：支持中文/英文兩種語言界面；

即時監(jiān)控：系統(tǒng)測試狀態(tài)即時瀏覽，無須等待；

圖例管理：通過軟件中的狀態(tài)圖示，立即對狀態(tài)說明，了解測試狀態(tài)；

使用權(quán)限：可設(shè)定使用者的權(quán)限，方便管理；

故障狀態(tài)：軟件具有設(shè)備的故障報警功能。

輸入電壓從0.5KV~50KV（可選）

標準網(wǎng)口，RS232，可選RS-485控制

過壓、過流、過溫、拉弧和輸出短路保護

電壓、電流控制

本地或遠程控制

安全的互鎖功能

可根據(jù)用戶要求訂制

技術(shù)指標

極化方式：油浴極化

極化路數(shù)：4路，每路獨立，互不干擾

極化電壓：0-10KV/0-20KV可選

電壓輸出精度：±1%

電流測量精度：0.05μA

升溫斜率：0-10℃/min

控溫精度：±1℃

溫度范圍：RT-200℃

測試樣品：壓電陶瓷和壓電薄膜

樣品尺寸：同時放4個樣品，ds5mm，p≤15mm

控溫方式：PID精確控溫

絕緣材料：99氧化鋁陶瓷和聚四氟乙烯

電壓：220V，50/60Hz

額定功率：2.6kW

典型應(yīng)用

加速器、壓電陶瓷、壓電薄膜極化、離子注入、電容充電、電子束、離子注入等。