反滲透水處理設(shè)備（膜分離）技術(shù)的應(yīng)用使反滲透超純水設(shè)備從傳統(tǒng)的陽離子交換器、脫碳、陰離子交換器、復(fù)合離子交換器得到了一次進步。 　　近年來開始在國外推廣應(yīng)用的EDI（電去離子）技術(shù)，則是超純水制造技術(shù)的一次革命，從此進入了一個無需再生化學(xué)品，而能生產(chǎn)出高達18MΩ·CM的超純水，用于半導(dǎo)體、集成電路等行業(yè)?！?　　反滲透超純水設(shè)備是采用RO技術(shù)設(shè)計，關(guān)鍵部件、設(shè)備采用進口產(chǎn)品，工藝*，質(zhì)量可靠，可擴展性強，結(jié)構(gòu)合理占地小，水利用率高，能耗低，全自動化運行，操作維護簡單。一般產(chǎn)水下限0.25m3/hr，上限不限，水回收率一般可達75%以上，脫鹽率＞98%。產(chǎn)水量隨進水溫度下降和反滲透膜老化或受污染有一定變化。 　　反滲透超純水設(shè)備典型工藝流程為： 　　1: 預(yù)處理－反滲透－純化水箱－離子交換器－紫外燈-純水泵－用水點 　　2: 預(yù)處理－一級反滲透－二級反滲透（正電荷反滲膜）－純化水箱－純水泵-紫外燈－用水點 　　3: 預(yù)處理－反滲透－中間水箱－中間水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵-紫外燈－用水點 　　4: 預(yù)處理→紫外線殺菌裝置→一級RO裝置→二級RO裝置→中間水箱→EDI裝置→脫氧裝置→氮封純水箱→除TOC UV裝置→拋光混床→超濾裝置→用水點 　　水質(zhì)符合美國ASTM標(biāo)準(zhǔn)，電子部超純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級）