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半導體材料超純水設備

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更新時間:2023-03-11 22:15:57瀏覽次數(shù):441次

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半導體材料超純水設備

詳細介紹

  半導體材料是常用的原料,尤其是在電子行業(yè)高速發(fā)展的今天。半導體材料超純水設備采用RO、EDI與精混床除鹽水處理工藝,技術*可靠自動化程度高。設備重要的就是出水穩(wěn)定,水質的電阻率達到18.2 MΩ.cm。

  半導體材料超純水設備配置

  半導體材料超純水設備的配置包括四部分,分別是前處理、預處理、主機系統(tǒng)以及后處理消毒裝置。主要包括原水加壓泵、多介質過濾器、活性炭過濾器、軟水器、保安過濾器。主機系統(tǒng)是雙級反滲透設備、EDI主機系統(tǒng),消毒裝置是臭氧發(fā)生器。

  半導體材料超純水設備優(yōu)勢

  半導體材料超純水設備優(yōu)勢在于其的配置,主要是以反滲透和電去離子裝置為主機。這是當今*環(huán)保制取超純水的工藝。這種工藝不需要要用酸堿進行再生便可連續(xù)制取,不會對環(huán)境造成二次污染。

  半導體材料超純水設備特點

  半導體材料超純水設備的特點就是實用性能強可以根據(jù)客戶的實際而定。EDI系統(tǒng)有相當處理水量,采用積木式結構可依據(jù)場地的高度靈活地構造。是采用模塊化的設計,在生產(chǎn)工作時能方便維護。

  電子科技的發(fā)展代表著整體技術的發(fā)展水平,半導體材料的生產(chǎn)技術要求很高。半導體材料超純水設備是我們超純水設備廠家的自主研發(fā),結合了國內外的*技術。設備的自動化智能化程度高,做到了基本無污染清潔生產(chǎn)的要求。

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