OTF-1200X-RTP-II-5-R 5英寸旋轉蒸發(fā)鍍膜爐

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更新時間：2023-01-11 10:02:52瀏覽次數(shù)：418次

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產(chǎn)品簡介

簡要描述：OTF-1200X-RTP-II-5-R是一款5英寸近距離旋轉蒸發(fā)鍍膜爐，其爐腔體是一直徑為11英寸的石英管。此款設備專門設計針對于熱蒸發(fā)或CSS（Close Spaced Sublimation）鍍膜實驗，其鍍膜面積可達到5“x5“，并且頂部載樣臺可旋轉，提高鍍膜均勻性。此款高溫爐的加熱元件是兩組紅外燈管（分別位于頂部和底部），大升溫速率為10#186;C/s 。對于探索新一代的薄膜太陽能電池，

詳細介紹

OTF-1200X-RTP-II-5-R是一款5英寸近距離旋轉蒸發(fā)鍍膜爐，其爐腔體是一直徑為11英寸的石英管。此款設備專門設計針對于熱蒸發(fā)或CSS（Close Spaced Sublimation）鍍膜實驗，其鍍膜面積可達到5"x5"，并且頂部載樣臺可旋轉，提高鍍膜均勻性。此款高溫爐的加熱元件是兩組紅外燈管（分別位于頂部和底部），大升溫速率為10ºC/s 。對于探索新一代的薄膜太陽能電池，如CdTe、硫化物和鈣鈦礦結構太陽能電池,這是一款理想的實驗工具。

功能特點

由兩組紅外燈管作為加熱元件，分別位于頂部和底部，兩溫度控制器進行獨立控溫
大升溫速率為10℃/s
大溫度可達800℃
兩樣品臺距離以及旋轉均可通過觸摸屏控制
頂部載樣臺可旋轉，轉速可調(diào)：1-7rpm

技術參數(shù)
工作電壓	AC 220V, 50/60Hz （需要50A的空氣開關）
真空法蘭	真空法蘭為316不銹鋼制作頂部法蘭（可通過控制盒進行上升和下降）： • 一機械壓力表 • 一KF16接口，可以安裝防腐真空計 • 兩個不銹鋼精密針閥用于氣體的進出 • 底部法蘭： • 一KF25接口，可以與真空泵相連接 • 法蘭是通過兩個硅膠O型圈進行密封： • 真空度：20Pa（機械泵） • 真空度：10^-1 Pa（分子泵）
加熱元件和載樣臺	由兩組紅外燈管作為加熱元件，分別位于頂部和底部兩個加熱臺之間的距離可以通過直流電機調(diào)節(jié)（觸摸屏控制），調(diào)節(jié)范圍為：2-50mm 頂部載樣臺可旋轉（觸摸屏控制），轉速：1-7rpm 為了減少熱量輻射和達到較快的冷卻速率，加熱元件安裝在帶有水冷夾層的不銹鋼殼體中，（不銹鋼殼體采用316不銹鋼制作）采用導熱率較高的氮化鋁陶瓷片（5"×5"×0.5mm厚度）作為載樣臺，以達到較好的加熱均勻性注：可選購5"x5"的石墨坩堝放于底部載樣臺用來盛放蒸發(fā)原料，提高溫度均勻性
溫控系統(tǒng)	兩個精密的溫控系統(tǒng)分別獨立控制上下兩個加熱區(qū)，可設置30段升降溫程序每個溫控系統(tǒng)都帶有超溫和斷偶保護 PC通訊接口，軟件可安裝，可將控溫程序和溫度曲線導入到電腦中
工作溫度	MAX工作溫度為：800℃ 兩個加熱區(qū)之間的大溫差為300℃
加熱和冷卻速率	建議加熱速率≤ 10ºC/s（每個溫區(qū)單獨加熱）冷卻速率> 10ºC/s (800 - 300ºC)
熱電偶	兩個K型熱電偶，安裝在頂部和底部，都與氮化鋁陶瓷片相接觸
可選	此款儀器使用時需要配用一循環(huán)水冷機（58L/min) 實驗時需要一個真空泵，可與本公司選購真空泵若要使真空腔體內(nèi)達到更潔凈的工作環(huán)境，可換購無油泵可選購質(zhì)子流量計混氣系統(tǒng)，將實驗所需氣體安比列混好后導入到真空腔體中
質(zhì)保	一年質(zhì)保期，終生維護（不包括密封圈、加熱元件和石英管）
產(chǎn)品尺寸	790mm × 600mm × 1100mm
使用注意事項	爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa 由于氣瓶內(nèi)部氣壓較高，所以向爐管內(nèi)通入氣體時，氣瓶上必須安裝減壓閥，建議在本公司選購減壓閥，本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全對于樣品加熱的實驗，不建議關閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關閉氣閥對樣品加熱，則需時刻關注壓力表的示數(shù)，若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa，必須立刻打開泄氣閥，以防意外發(fā)生（如爐管破裂，法蘭飛出等）