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VTC-600-2HD 雙靶磁控濺射儀

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更新時間：2023-01-11 10:01:39瀏覽次數(shù)：388次

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深圳市科晶智達科技有限公司

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產(chǎn)品簡介

簡要描述：VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備。

詳細介紹

功能特點

配置兩個靶槍，一個為配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，一個為配套直流電源用于導(dǎo)電類材料的濺射鍍膜。
可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛。
體積小，操作簡便。

技術(shù)參數(shù)
安裝條件	本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。
水	設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機（加注純凈水或者去離子水）
電	AC220V 50Hz，必須有良好接地
氣	設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣（純度99.99%以上），需自備氬氣氣瓶（自帶Ø6mm雙卡套接頭）及減壓閥
工作臺	尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上
通風裝置	需要
電源電壓	220V 50Hz
大功率	<560W（不含真空泵）
極限真空度	< ?E-6mbar（配合本公司設(shè)備使用可達到?E-5mbar）
工作溫度	RT-500℃，精度±1℃（可根據(jù)實際需要提升溫度）
靶槍數(shù)量	2個（可選配其他數(shù)量）
靶槍冷卻方式	水冷
靶材尺寸	Ø2″，厚度0.1-5mm（因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同）
直流濺射功率	500W（可選）
射頻濺射功率	300W/500W（可選）
載樣臺	Ø140mm
載樣臺轉(zhuǎn)速	1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào)
保護氣體	Ar、N2等惰性氣體
進氣氣路	質(zhì)量流量計控制2路進氣，每個流量為100SCCM
主機尺寸	500mm×560mm×660mm
整機尺寸	1300mm×660mm×1200mm
重量	160kg
可選配件	金、銦、銀、白金等各種靶材
標準配件	1	直流電源控制系統(tǒng)	1套
	2	射頻電源控制系統(tǒng)	1套
	3	膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng)	1套
	4	分子泵（德國進口）	1臺
	5	冷水機	1臺
	6	冷卻水管（Ø6mm）	4根
	7	靶材（不銹鋼靶、陶瓷靶）	各1件