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深圳市科晶智達科技有限公司
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更新時間:2023-01-11 10:00:16瀏覽次數(shù):399次
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簡要描述:鈣鈦礦鍍膜機主要由有機/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成。適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導體薄膜、氧化物薄膜、有機薄膜等,可用于科研單位進行新材料、新工藝薄膜研究工作,也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗工作,廣泛應用于有機、無機、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、OLED等研究領域。
鈣鈦礦鍍膜機主要由有機/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成。適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導體薄膜、氧化物薄膜、有機薄膜等,可用于科研單位進行新材料、新工藝薄膜研究工作,也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗工作,廣泛應用于有機、無機、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、OLED等研究領域。
功能特點 |
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技術參數(shù) | ||
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鍍膜室 | ● 不銹鋼材料,采用方形前后開門結構,內(nèi)帶有防污板,腔室尺寸約為600mm×450mm×450mm | |
真空排氣系統(tǒng) | ● 采用分子泵+機械泵系統(tǒng) | |
真空度 | ● 鍍膜室極限真空≤6×10-4Pa | |
系統(tǒng)漏率 | ● ≤1×10-7Pa | |
蒸發(fā)源 | ● 安裝在真空室的下底上;有機蒸發(fā)源4個、容積5ml,2臺蒸發(fā)電源,可測溫、控溫,加熱溫度400℃,功率0.5KW;無機蒸發(fā)源4套、容積5ml,2臺蒸發(fā)電源,加熱電流300A,功率3.2KW;蒸發(fā)源擋板采用自動磁力控制方式控制其開啟 | |
樣品架 | ● 安裝在真空室的上蓋上,可放置Ø120mm的樣品、載玻片,旋轉速度0-30rpm | |
加熱溫度 | ● RT-180℃,測溫、控溫 | |
膜厚控制儀 | ● 石英晶振膜厚控制儀,膜厚測量范圍0-999999Å |
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