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半導體廢水處理設備

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更新時間：2021-11-05 16:01:14瀏覽次數(shù)：438次

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產(chǎn)品簡介

一、產(chǎn)品簡介：EDI(Electrodeionization)中文稱為電去離子技術，是結合了兩種成熟的去離子技術電滲析去離子技術和離子混床去離子技術的一種新型成熟水處理技術

詳細介紹

一、產(chǎn)品簡介：
EDI(Electrodeionization)中文稱為電去離子技術，是結合了兩種成熟的去離子技術——電滲析去離子技術和離子混床去離子技術的一種新型成熟水處理技術。
　　它通過*的設計，使進水通過填充有可再生樹脂的淡水室，使水中雜質(zhì)離子被樹脂吸附，從而得到純化水。而樹脂在直流電場裂解水的作用下得到無污染的再生，因此保持活性。而釋放的雜質(zhì)離子將在直流電場的作用下，定向移動，通過離子選擇膜進入濃水室被濃水帶走。
　　這樣一個純化過程持續(xù)的進行：純化——>再生——>純化…,達到持續(xù)高效生產(chǎn)高純水的目的。
二、設備的主要特點：

　　1.產(chǎn)水水質(zhì)高，產(chǎn)水穩(wěn)定度高。
　　2.連續(xù)不間斷制水，不因再生而停機。
　　3.模塊化生產(chǎn)，并可實現(xiàn)全自動控制。
　　4.無須酸堿再生，無污水排放。
　　5.無酸堿再生設備和化學藥品儲運。
　　6.設備結構緊湊，占地面積小。
　　7.運行費用及維修成本低。
　　8.運行操作簡單，勞動強度低
三、設備進水要求：

　　反滲透RO產(chǎn)水，電導率小于20μs/cm。
　　pH值：7.5—9
　　溫度：15℃--35℃
　　進水壓力（DIN）：0.15—0.4MPa
　　進水硬度：＜1.0ppm(以CaCO 計）(推薦0 5ppm以下）
　　進水有機物：TOC＜0.5ppm
　　進水硅：SiO2＜0.5ppm
　　進水總CO2：＜3ppm
　　進水顆粒度：＜1μm
四、技術參數(shù)：

五、適用范圍：

　　制造行業(yè)：　汽車　　　玻璃　　　鋼材　　　造紙　　　紡織等
　　電力行業(yè)：　鍋爐　　　火電　　　發(fā)電　　　冷卻　　　循環(huán)等
　　餐飲行業(yè)：　飲料　　　食品　　　乳業(yè)　　　飲水　　　酒店等
　　電鍍行業(yè)：　鍍膜　　　照明　　　冷卻　　　鍍金屬　　LED燈等
　　光電行業(yè)：　光伏　　　光電　　　照明　　　新能源　　LED燈等
　　電子行業(yè)：　電器　　　芯片　　　線路板　　單片機　　電子原件等
　　制藥行業(yè)：　醫(yī)藥　　　器械　　　口服液　　成品藥　　生物制劑等
能源行業(yè)：　氧化　　　半導體　　硅材料　　多晶硅　　金屬提取等
六、工藝流程：