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研磨拋光劑

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產(chǎn)品簡介

研磨拋光劑是不同于固結(jié)磨具,涂附磨具的另一類“磨具",磨料在分散劑中均勻、游離分布

詳細(xì)介紹

  研磨拋光劑是不同于固結(jié)磨具,涂附磨具的另一類“磨具",磨料在分散劑中均勻、游離分布。研磨拋光劑可分為研磨劑和拋光液。一般研磨劑用于粗磨,拋光液用于精密磨削。拋光液通常用于研磨劑的下道工序,行業(yè)中也把拋光液稱為研磨劑或把研磨劑稱為拋光液的。

  研磨劑按其作用機(jī)理分:機(jī)械作用研磨劑,化學(xué)機(jī)械作用研磨劑。

  機(jī)械作用的研磨劑:以金剛石、B4C等為磨料,通過添加分散劑等方式分散到液體介質(zhì)中,從而形成具有磨削作用的液體,稱為金剛石研磨劑、碳化硼研磨劑等。磨料在分散液中游離分布,利用磨料硬度比待磨工件硬度大的原理,實(shí)現(xiàn)工件的研磨、減薄。根據(jù)磨料的表面、顆粒大小及研磨劑配置、研磨設(shè)備穩(wěn)定性等情況,研磨完成后,工件表面容易留下或大或小的劃痕。所以,機(jī)械作用的研磨劑一般用于粗磨,后續(xù)還需要精密研磨拋光。

  化學(xué)機(jī)械作用研磨劑:化學(xué)機(jī)械作用研磨劑利用了磨損中的“軟磨硬"原理,即用較軟的材料來進(jìn)行拋光以實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的拋光表面,是機(jī)械削磨和化學(xué)腐蝕的組合技術(shù),它借助超微粒子的研磨作用和化學(xué)腐蝕作用在被研磨的介質(zhì)表面形成光潔平坦表面。所以化學(xué)機(jī)械作用研磨劑又稱為化學(xué)機(jī)械拋光液(Chemical Mechanical Polishing,簡稱CMP)。在一定壓力及拋光漿料存在下,被拋光工件相對于拋光墊作相對運(yùn)動(dòng),借助于納米粒子的研磨作用與氧化劑的腐蝕作用之間的有機(jī)結(jié)合,在被研磨的工件表面形成光潔表面



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