半導(dǎo)體工業(yè)對(duì)于純水的水質(zhì)要求是及其嚴(yán)格的，大部分的電子產(chǎn)品，如計(jì)算機(jī)或是數(shù)字錄音機(jī)當(dāng)中的核心單元都和半導(dǎo)體有著極為密切的關(guān)聯(lián)， 因此無論從科技或是經(jīng)濟(jì)發(fā)展的角度來看，半導(dǎo)體的重要性都是非常巨大的。

　　今天來簡(jiǎn)單講解一下關(guān)于半導(dǎo)體工業(yè)純水設(shè)備工藝流程：

　　半導(dǎo)體工業(yè)純水設(shè)備常采用的水處理工藝是電去離子EDI系統(tǒng)：

　　電去離子也就是常說的EDI，EDI系統(tǒng)采用的是一種離子交換技術(shù)，子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)相結(jié)合的純水制造技術(shù)。

　　新的水處理工藝流程(≥18MΩ.CM)：

　　原水預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對(duì)象。

　　傳統(tǒng)的水處理工藝流程(≥18MΩ.CM)：

　　原水預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對(duì)象。

　　采用EDI系統(tǒng)制取純水的優(yōu)勢(shì)有：

　　1、EDI凈水設(shè)備具有連續(xù)出水;

　　2、設(shè)備在運(yùn)行期間沒有加入化學(xué)藥劑，無需酸堿再生;

　　3、設(shè)備采用的是全自動(dòng)的控制模式，因此可達(dá)到無人值守;

　　4、設(shè)備安裝方便：EDI系統(tǒng)采用積木式結(jié)構(gòu)，依據(jù)場(chǎng)地的高度和窨靈活地構(gòu)造;

　　以上是小編整理的關(guān)于半導(dǎo)體工業(yè)純水設(shè)備工藝流程講解，如想了解關(guān)于半導(dǎo)體工業(yè)純水設(shè)備水質(zhì)為17MΩ.CM、15MΩ.CM等的水質(zhì)工藝流程可到宏森環(huán)保進(jìn)行詳細(xì)的資料查詢。