半導體生產中水回用

　　針對半導體生產中水，萊特萊德提供完整的中水處理方案，中水回用方案。半導體生產中水回用系統(tǒng)通過膜生物反應器和三級處理系統(tǒng)，對半導體中水進行處理，使之達到新的嚴格的環(huán)境規(guī)定，實際在工廠內的再次利用，不僅能有效地節(jié)約有限的水資源，而且能減少污水的排放，具有良好的經濟效益。

　　1、中水回用設備淤泥產出量低、臭氣產出量低、能量需求量低，化學品需要量較小或為零。

　　2、資源利用經本系統(tǒng)處理后的回用水，滿足嚴格的工廠回用水品質要求，可供應純水系統(tǒng)或直接回用到生產線。

　　3、性價比高本系統(tǒng)操作便捷，抗沖擊負荷，占地緊湊，穩(wěn)定性高，運轉成本低，經過大量成功案例驗證。半導體生產中水主要來自車間的鍍槽、清洗水等，中水中含有的主要污染物有：Ag、Cu、Ni、COD、SS、CN、酸堿等。半導體生產中水排放量大，中水污染物種類多，成份復雜，尤其是溶解固體和懸浮固體在含量、酸堿度和金屬雜質方面的差異，使半導體中水回用對常規(guī)技術處理造成了挑戰(zhàn)。

　　萊特萊德北京環(huán)境有限公司提供的半導體生產中水回用系統(tǒng)通過膜生物反應器和三級處理系統(tǒng)，對半導體中水進行處理，使之達到新的嚴格的環(huán)境規(guī)定，實際在工廠內的再次利用。本系統(tǒng)不僅能有效地節(jié)約有限的水資源，從而減輕對水資源的消耗，緩解日趨突出的用水緊張矛盾，而且能減少污水的排放，減輕對周圍水體的污染，改善人類居住環(huán)境。