無(wú)塵潔凈室有多種潔凈等級(jí)及空間調(diào)配能夠依據(jù)運(yùn)用需求設(shè)計(jì)制造，因而其簡(jiǎn)潔運(yùn)用彈性大安裝簡(jiǎn)單且施工期短以及可移性為其主要特色，潔凈棚一起可針對(duì)在一般等級(jí)的潔凈室中局部地區(qū)需要高潔凈度的當(dāng)?shù)夭吭鲈O(shè)以降低成本。潔凈棚是一種可提供局部高潔凈環(huán)境的空氣凈化設(shè)備。潔凈棚主要由箱體、風(fēng)機(jī)、初效空氣過(guò)濾器、阻尼層、燈具等組成，外殼噴塑。該產(chǎn)品既可懸掛，又可地上支撐，結(jié)構(gòu)緊湊，運(yùn)用方便。能夠單個(gè)運(yùn)用，也可多個(gè)銜接

無(wú)塵潔凈室

有多種潔凈等級(jí)及空間調(diào)配能夠依據(jù)運(yùn)用需求設(shè)計(jì)制造，因而其簡(jiǎn)潔運(yùn)用彈性大安裝簡(jiǎn)單且施工期短以及可移性為其主要特色，潔凈棚一起可針對(duì)在一般等級(jí)的潔凈室中局部地區(qū)需要高潔凈度的當(dāng)?shù)夭吭鲈O(shè)以降低成本。潔凈棚是一種可提供局部高潔凈環(huán)境的空氣凈化設(shè)備。潔凈棚主要由箱體、風(fēng)機(jī)、初效空氣過(guò)濾器、阻尼層、燈具等組成，外殼噴塑。該產(chǎn)品既可懸掛，又可地上支撐，結(jié)構(gòu)緊湊，運(yùn)用方便。能夠單個(gè)運(yùn)用，也可多個(gè)銜接組成帶狀潔凈區(qū)域。 潔凈室的溫濕度主要是依據(jù)工藝要求來(lái)斷定，但在滿(mǎn)意工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到人的舒適度感。跟著空氣潔凈度要求的進(jìn)步，呈現(xiàn)了工藝對(duì)溫濕度的要求也越來(lái)越嚴(yán)的趨勢(shì)。

 

濕度過(guò)高發(fā)生的問(wèn)題更多，相對(duì)濕度超越55%時(shí)，冷卻水管壁上會(huì)結(jié)露，假如發(fā)生在精密裝置或電路中，就會(huì)引起各種事故。相對(duì)濕度在50%時(shí)易生銹。此外，濕度太高時(shí)將經(jīng)過(guò)空氣中的水分子把硅片外表粘著的灰塵化學(xué)吸附在外表耐難以鏟除。相對(duì)濕度越高,粘附的難去掉，但當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的效果使粒子也簡(jiǎn)單吸附于外表，一起很多半導(dǎo)體器材簡(jiǎn)單發(fā)生擊穿。關(guān)于硅片出產(chǎn)佳溫度規(guī)模為35—45%。      

具體工藝對(duì)溫度的要求今后還要列舉，但作為總的準(zhǔn)則看，由于加工精度越來(lái)越精密，所以對(duì)溫度波動(dòng)規(guī)模的要求越來(lái)越小。例如在大規(guī)模集成電路出產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板資料的玻璃與硅片的熱脹大系數(shù)的差要求越來(lái)越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線(xiàn)性脹大，所以必須有±0.1度的恒溫，一起要求濕度值一般較低，由于操作人員出汗今后，對(duì)產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車(chē)間，這種車(chē)間不宜超越25度。 

無(wú)塵潔凈室