噴漆房漆霧處理器UV光解催化氧化處理設備

UV光解催化氧化技術(shù)凈化原理主要是由光解和光催化氧化技術(shù)組合而成。

光解技術(shù)是利用185nm短波波長紫外光對廢氣分子進行裂解，打斷分子鏈，同時光解空氣中的水和氧氣，生成羥基自由基、臭氧等高級氧化劑氧化去除VOCs；光催化氧化技術(shù)是在設備中添加納米級活性材料，在紫外光線的作用下，產(chǎn)生更為強烈的催化降解功能。由于作為催化劑的TiO2價格低廉，來源廣泛，對紫外光吸收率較高，抗光腐蝕穩(wěn)定性和催化活性高，且沒有毒性，對很多有機物有較強的吸附作用，因而成為各類試驗研究中常用的光催化劑。

光催化反應面臨的問題主要有催化劑失活、反應動力學常數(shù)較小、不可預測的反應機理等，同時濕度能抑制光催化速率，尤其是有機廢氣濃度較大時，這種影響更為明顯，因此限制了光催化技術(shù)在處理濕度較大的廢氣方面的應用。由于納米材料本身對有機物具有氧化作用，納米材料與粘結(jié)劑的耐光催化性、載體的催化活性包括失活后的再生問題及膜的牢固性仍然是光催化技術(shù)的關(guān)鍵技術(shù)難題。

噴漆房漆霧處理器UV光解催化氧化處理設備

通過設備改進和實驗室試驗，主要從影響UV光催化治理VOCs效率的主要因素UV波長，起始溫度，初始濃度，相對濕度，停留時間，反應介質(zhì)等進行研究，找到佳反應效率和低能耗。

(1) 廢氣濃度的影響：UV光催化治理VOCs適合的應用范圍主要包括噴涂車間、印刷、電子、制藥、食品等行業(yè)產(chǎn)生的低濃度有機廢氣，對于20-200ppm以下的濃度效果較好，隨著VOCs濃度增高，降解效率也會隨之降低。

(2) 低相對濕度的影響：對于一定的濕度條件下，氧氣吸收了大部分185nm紫外光，但是隨著濕度的進一步增加，一部分是水蒸氣與氧氣競爭吸收185nm波長的紫外光，水蒸氣吸收了更多的185nm紫外光，同時產(chǎn)生更多羥基自由基。水蒸氣與活性氧反應生成羥基自由基，羥基自由基的氧化性要強于臭氧和活性氧，從而光解的速度明顯加快，促進單位時間內(nèi)對于廢氣去除率的增加，試驗證明相對濕度在30-65%這個范圍，光解效率是上升的，相對濕度超過70%后隨之逐漸下降。

(3) 風速的影響：大量實驗證明風速越大，水蒸氣進出口的濕度差越小，這也就是說風速越大，羥基自由基產(chǎn)生量的值也會越少。因此在風速小的工況下，羥基自由基對揮發(fā)性有機物VOCs的貢獻大，風速大的工況下，羥基自由基對有機物降解的作用就會變得十分有限。風速也會影響紫外燈的燈管表面溫度，燈管表面溫度與紫外燈的發(fā)光效率有直接關(guān)系，燈表溫高于某一數(shù)值時會直接影響其發(fā)光效率。在設備測試中，風速在低于2m/s的時候，反應效果較好。在一定的設備空間內(nèi)，風速同時影響了停留時間，一般停留時間增加，廢氣的去除效率有明顯增高。原因是停留時間增加，185nm紫外光和有機物碰撞次數(shù)一定增加。當停留時間達到10s后，延長停留時間，廢氣的降解效率增加并不明顯。尤其是在低濃度下，延長停留時間并不能等效增加廢氣的去除效率。

(4) 光源的影響：目前，一般選擇185nm和254nm兩個波段的真空紫外燈，但市場上的UV燈管質(zhì)量良莠不齊。

(5) 合理的設備空間布局和結(jié)構(gòu)：對于凈化設備的制造也有一些問題要注意，目前UV光催化治理VOCs設備的自動化程度低，基本還沒有自動檢測和監(jiān)控功能，所以對產(chǎn)品的整體效果不能夠進行有效的效率評估。要合理的處理好催化劑的布置、數(shù)量，要準確處理好透光性和氣體的流速，要進行合理的能量匹配和結(jié)構(gòu)優(yōu)化，否則，很多設備的有效去除率是遠遠不夠的。