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    為推進中國石墨烯等碳納米材料的研究和產(chǎn)業(yè)發(fā)展，2016石墨烯高峰論壇將于4月14日在清華大學深圳研究生院舉行。

    本次論壇將繼續(xù)以石墨烯基納米碳材料的制備器件、工業(yè)化應(yīng)用開發(fā)等為主題，多個國家和地區(qū)的學者和產(chǎn)業(yè)界人士，從學術(shù)和產(chǎn)業(yè)化視角探討石墨烯及其他二維材料的研究進展和產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀，為國內(nèi)外杰出科學家與企業(yè)家搭建一個交流與合作的平臺。

巨納集團SUNANO GROUP也將出席本次論壇，巨納作為我國*石墨烯國家標準的*起草單位和組長單位，除了與國內(nèi)外專家學者交流之外，還會為大家介紹zui的多密度等離子體CVD系統(tǒng)-NEXTCVD。如果您正從事相關(guān)的工作，歡迎到現(xiàn)場與我們交流。

 

多密度等離子體CVD系統(tǒng)-NEXTCVD

SUNANO多功能寬密度等離子體CVD結(jié)合了電感耦合和電容耦合輝光放電的優(yōu)點，可在寬密度工藝范圍（109-1013 cm-3)實現(xiàn)穩(wěn)定的等離子體輔助CVD，具有優(yōu)良的材料處理性能和廣泛的應(yīng)用范圍，是目前功能zui強大的等離子體CVD系統(tǒng)。

       主要特點 

• 主要用于石墨烯表面層數(shù)減薄、刻蝕、修飾、改性
• 多種工作氣體下產(chǎn)生穩(wěn)定的等離子體輝光放電： 
• 氬氣、氫氣、氮氣、氧氣、氨氣、六氟化   硫、四氟化碳、二氧化碳等等。
• 等離子體密度可調(diào)，變化范圍大（109-1013 cm-3）
• 可與磁控濺射同時工作形成共沉積（zui多可與四個磁控濺射靶材形成等離子 體輔助沉積），因而可沉積多種多樣的化合物薄膜 

廣泛的應(yīng)用范圍 

• 光伏行業(yè)（氮化硅/非晶硅/微晶硅/等離子體織構(gòu)與刻蝕）
• 新型二維材料（石墨烯/二硫化鉬等的表面改性及制備）
• 半導體工藝（刻蝕工藝/氮化硅與二氧化硅工藝等）
• 納米材料的生長與納米形貌的刻蝕構(gòu)造 

 

熱烈歡迎世界各界人士蒞臨巨納集團展臺，溝通交流，共商合作大業(yè)！