詳細(xì)介紹
聚酰亞胺(polyimide,PI)是指主鏈上含有酰亞胺環(huán)的一類聚合物,一般由芳香二 胺和脂肪二酐或者芳香二酐縮聚而成。由于其半梯形和梯形的主鏈結(jié)構(gòu)、芳環(huán)的共振作用, 使其具有的熱穩(wěn)定性、化學(xué)穩(wěn)定性、電絕緣性以及高的機(jī)械強(qiáng)度,成為具有廣泛應(yīng)用的 材料。此外,它還具有與基板良好的粘附性,以及與半導(dǎo)體工藝良好的匹配性等特 點(diǎn),因此近些年來被廣泛應(yīng)用于微電子域,作為微電子器件的絕緣層、鈍化層或者應(yīng)力緩 沖層。
由于溶解度的限制,現(xiàn)有的聚酰亞胺預(yù)聚體溶液的固含量一般在10?20%,進(jìn)一 步提高固含量會引起聚合物溶液凝膠。但是,眾多電子器件用戶提出高厚度聚酰亞胺涂層 的要求,需一種反應(yīng)步驟簡單、固含量高、粘度低、適于產(chǎn)業(yè)化的設(shè)備。本進(jìn)過IKN高剪切納米研磨分散機(jī)可以調(diào)節(jié)反應(yīng)體系的粘度,終 得到高固含量、低粘度聚酰亞胺預(yù)聚體,IKN高剪切納米研磨分散反應(yīng)步驟簡單,產(chǎn)率相當(dāng)高,接近*,生產(chǎn) 過程高度可控,適于產(chǎn)業(yè)化。反應(yīng)過程中將固含量控制在30%到35%之間,能夠滿足電子器件用戶 高厚度聚酰亞胺涂層的要求,能夠提高電子器件的耐擊穿性及其他方面性能。能夠有效的降低溶劑的 使用量,降低產(chǎn)品的生產(chǎn)和運(yùn)輸成本,減少有機(jī)試劑對環(huán)境的污染。
高固含量低粘度聚酰亞胺納米研磨機(jī)的細(xì)化作用一般來說要弱于均質(zhì)機(jī),但它對物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質(zhì)機(jī)的道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時也常常使用膠體磨進(jìn)行細(xì)化.漿料的分散中,顆粒粒徑并非越細(xì)越好,要視漿料的特性而定。分散就是要根據(jù)物料的特性與特點(diǎn),減小分散相顆粒的粒度,使其分布于一個較窄的尺寸范圍,并達(dá)到吸力與斥力的相互平衡,從而漿料體系的穩(wěn)定。
影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)
1 膠體磨磨頭頭的剪切速率 (越大,效果越好)
2 膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細(xì)齒,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)
3 物料在研磨腔體的停留時間,研磨粉碎時間(可以看作同等的電機(jī),流量越小,效果越好)
4 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)
線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s) g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
高固含量低粘度聚酰亞胺納米研磨機(jī)CM2000系列是門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計,特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。CM2000的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每都可以改變方向。的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
三錯齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子,配合精密的定子腔。此款立式膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達(dá)到3倍以上,轉(zhuǎn)速可以達(dá)到14000RPM。所以可以達(dá)到更好的分散濕磨效果。
研磨機(jī)和分散機(jī)的結(jié)合體。它是經(jīng)過依肯眾多實(shí)驗(yàn)并總結(jié)后全新研發(fā)出的一類設(shè)備,是在傳統(tǒng)膠體磨的基礎(chǔ)上進(jìn)行改進(jìn),添加了分散機(jī)的分散盤,使其在膠體磨研磨轉(zhuǎn)子的高速(高轉(zhuǎn)速21000轉(zhuǎn))研磨作用下瞬間進(jìn)入分散盤中進(jìn)行高剪切分散,同時由于在整個過程中除了有高速研磨作用及高剪切分散作用下,物料還同時承受著高頻的液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等多種作用力,因此經(jīng)IKN上海依肯研磨分散機(jī)研磨分散后漿料是均一、穩(wěn)定、精細(xì)的產(chǎn)品!
高固含量低粘度聚酰亞胺納米研磨分散機(jī),聚酰亞胺高剪切納米研磨分散機(jī),管線式高速研磨機(jī),高固含納米研磨分散機(jī),工業(yè)化14000轉(zhuǎn)研磨分散機(jī)