68t/h電子工業(yè)用高純水設(shè)備（http://www.dgsy168.com/）

一、制備電子工業(yè)用高純水設(shè)備概述

　　制備電子工業(yè)主要包括半導(dǎo)體材料、印刷電路板、液晶顯示器、光電器件、微電子工業(yè)以及大規(guī)模集成電路，這些領(lǐng)域?qū)τ谟盟蠖挤浅８?，一般將電子行業(yè)用水分為五個等級，分別是1 MΩ.cm、5 MΩ.cm、10 MΩ.cm、16 MΩ.cm和18 MΩ.cm。制備電子工業(yè)用高純水設(shè)備采用*的制水技術(shù)，保證設(shè)備的出水水質(zhì)達(dá)到18兆歐以上。

　二、制備電子工業(yè)用高純水設(shè)備工藝流程

　　電子行業(yè)制備高純水的工藝大致分成以下幾種：

　　1、采用離子交換樹脂制備高純水的其基本工藝流程為：原水→原水箱→原水泵→多介質(zhì)過濾器→保安過濾器→陽床→陰床(復(fù)床)→混床→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點(diǎn)。

　　2、采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備其基本工藝流程為：原水→原水箱→原水泵→多介質(zhì)過濾器→保安過濾器→高壓泵→反滲透設(shè)備→RO水箱→混床泵→混床→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點(diǎn)。

　　3、采用反滲透水處理設(shè)備與電去離子(EDI)設(shè)備，這是一種制取高純水的工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟(jì)，發(fā)展?jié)摿薮蟮?/span>高純水制備工藝，其基本工藝流程為：原水→原水箱→原水泵→多介質(zhì)過濾器→保安過濾器→高壓泵→反滲透設(shè)備→RO水箱→(EDI)泵→保安過濾器→紫外線→電去離子(EDI)→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點(diǎn)。

　三、LTLD-C制備電子工業(yè)用高純水設(shè)備的特點(diǎn)

　　EDI裝置不需要化學(xué)再生，可連續(xù)運(yùn)行，進(jìn)而不需要傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交換設(shè)備再生所需的酸堿液，以及再生所排放的廢水。其主要特點(diǎn)如下：

　　連續(xù)運(yùn)行，產(chǎn)品水水質(zhì)穩(wěn)定，容易實(shí)現(xiàn)全自動控制，無須用酸堿再生，不會因再生而停機(jī)，節(jié)省了再生用水及再生污水處理設(shè)施，產(chǎn)水率高(可達(dá)95%)，無須酸堿儲備和酸堿稀釋運(yùn)送設(shè)施。

　占地面積小，使用安全可靠,避免工人接觸酸堿，降低運(yùn)行及維護(hù)成本，設(shè)備單元模塊化，可靈活的組合各種流量的凈水設(shè)施，安裝簡單、費(fèi)用低廉，設(shè)備初期投資大。