氧化鋁高剪切膠體磨，氧化鋁超高速研磨分散機，藍(lán)寶石研磨機，三氧化二鋁分散機?，氧化鋁研磨分散機，藍(lán)寶石研磨分散機，三氧化二鋁研磨分散機 ，透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

詳情請接洽上海依肯,段，手機，(同) ，公司有樣機供客戶實驗

氧化鋁是將鋁礬土原料經(jīng)過化學(xué)處理，除去硅、鐵、鈦等的氧化物而制得，是純度很高的氧化鋁原料，Al?O?含量一般在99%以上。礦相是由40%～76%的γ- Al?O?和24%～60%的α- Al?O?組成。γ- Al?O?于950～1200℃可轉(zhuǎn)變?yōu)?alpha;- Al?O?（剛玉），同時發(fā)生顯著的體積收縮。紅寶石、藍(lán)寶石的主成份皆為氧化鋁，因為其它雜質(zhì)而呈現(xiàn)不同的色澤，藍(lán)寶石則含有氧化鐵和氧化鈦而呈藍(lán)色。

氧化鋁研磨分散機有2個特點  一個研磨分散  研磨：利用剪切力（shear force）、摩擦力或沖擊力（impactforce）將粉體由大顆粒粉碎成小顆粒。

氧化鋁高剪切膠體磨，氧化鋁超高速研磨分散機，藍(lán)寶石研磨機，三氧化二鋁分散機?，氧化鋁研磨分散機，藍(lán)寶石研磨分散機，三氧化二鋁研磨分散機

分散：納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住，以便達(dá)到顆粒*被分離（separating）、潤濕（wetting）、分布（distributing）均勻及穩(wěn)定（stabilization）目的。

在做納米粉體分散或研磨時，因為粉體尺度由大變小的過程中，范德華力及布朗運動現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)难心C來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運動影響，是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù)。

    納米研磨分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。 

    *級由具有精細(xì)度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

    第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。 詳情請接洽上海依肯,段，手機，(同) ，公司有樣機供客戶實驗

氧化鋁研磨分散機 的型號和

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。詳情請接洽上海依肯,段，手機，(同) ，公司有樣機供客戶實驗

2 處理量取決于物料的粘度，稠度和zui終產(chǎn)品的要求。

?，氧化鋁研磨分散機，藍(lán)寶石研磨分散機，三氧化二鋁研磨分散機