詳細介紹
石墨烯改性二氧化硅共混法分散設(shè)備,共混法石墨烯改性二氧化硅分散機廠家,石墨烯改性二氧化硅共混法高速研磨分散機,石墨烯/白炭黑復(fù)合材料研磨分散機,石墨烯/白炭黑復(fù)合材料分散機,石墨烯/白炭黑復(fù)合材料研磨分散機溶液共混法石墨烯/白炭黑復(fù)合材料研磨分散機,機械共混法石墨烯/白炭黑復(fù)合材料研磨分散機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。詳情請接洽上海依肯,段,手機,(同號)
一種乳液法制備石墨烯/二氧化硅 復(fù)合納米填料的方法其步驟為:
將氧化石墨溶于水中得到其水溶液,然后加入一定量的甲苯通過上海依肯機械設(shè)備的研磨分散均質(zhì)乳化機設(shè)備制備得到石墨烯乳液,再加入單體硅氧烷,用氨水調(diào)節(jié) pH值后攪拌反應(yīng),反應(yīng)結(jié)束后洗滌過濾得到石墨烯/二氧化硅復(fù)合納米填料。與一般溶液共混法制備的石墨烯/二氧化硅復(fù)合填料相比,利用本發(fā)明技術(shù)方案制備 的納米填料具有特異的微結(jié)構(gòu),二氧化硅的尺寸達微米級。填料在環(huán)氧樹脂基體中具有良好的分散性,同時結(jié)合了石墨烯材料以及二氧化硅各自的優(yōu)點能有效地增強 材料的力學(xué)性能和導(dǎo)熱性能。
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石墨烯/白炭黑復(fù)合材料由于石墨烯和白炭黑互相穿插有效抑制了兩種填料自身的聚集,從而得到高度分散、高度剝離且呈納米尺度分散的復(fù)合材料。不但具有較高的模量和較低的滾動阻力的同時,還大幅度提升了橡膠材料的耐磨性能,并進一步提高復(fù)合材料的模量和抗撕裂性能,同時由于氧化石墨烯的片層結(jié)構(gòu)以及良好的自恢復(fù)能力,還賦予了橡膠材料良好的氣體阻隔性能和自愈合能力,具有傳統(tǒng)填料*的優(yōu)勢
溶液共混法是指先用適當(dāng)?shù)娜軇⒕酆衔锘蝾A(yù)聚物溶解,然后用設(shè)備將石墨烯分散在溶液中制備成復(fù)合材料。
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分散:納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住,以便達到顆粒*被分離、潤濕,分布均勻及穩(wěn)定目的。
在做納米粉體分散或研磨時,因為粉體尺度由大變小的過程中,范德華力及布朗運動現(xiàn)象逐漸明顯且重要。選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當(dāng)?shù)难心C來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運動影響,是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級粉體研磨及分散關(guān)鍵技術(shù)。
石墨烯 分散技術(shù)三要素
二、分散劑用量*
三、石墨烯 分散劑概述
四、超聲波分散設(shè)備使用建議及分散實例
五、研磨分散設(shè)備使用建議
石墨烯 分散技術(shù)三要素:分散介質(zhì)、分散劑和分散設(shè)備
分散設(shè)備
(1)超聲波分散設(shè)備:非常適合實驗室規(guī)模、低粘度介質(zhì)分散石墨烯,用于中、高粘度介質(zhì)時會受到限制
(2)研磨分散設(shè)備:適合大規(guī)模地分散石墨烯,中粘度介質(zhì)分散石墨烯
(3)采用“先研磨分散、后超聲波分散”組合方法,可以高效、穩(wěn)定地分散石墨烯
是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出***終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
設(shè)備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式:普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件: PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW |
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CMD 2000/4 | 300 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD 2000/5 | 3000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD 2000/10 | 8000 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD 2000/20 | 20000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD 2000/30 | 40000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 80000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到***大允許量的10%。 |
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度,稠度和***終產(chǎn)品的要求。
3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準(zhǔn)確的參數(shù),以便選型和定制。
4 本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動,定制而不符,正確的參數(shù)以提供的實物為準(zhǔn)。
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