分子篩漿料高速膠體磨，分子篩高分子高剪切膠體磨，分子篩高分子漿料研磨機(jī)，分子篩漿料高速剪切膠體磨，分子篩高分子研磨機(jī)，分子篩漿料膠體磨 ,氧化鋁高速膠體磨是是由電動(dòng)機(jī)通過(guò)皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒（或稱(chēng)為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱(chēng)為定子）作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過(guò)本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過(guò)膠體磨定,轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力,摩擦力,高頻振動(dòng)等物理

分子篩漿料高速膠體磨，分子篩高分子高剪切膠體磨，分子篩高分子漿料研磨機(jī)，分子篩漿料高速剪切膠體磨，分子篩高分子研磨機(jī)，分子篩漿料膠體磨 ,氧化鋁高速膠體磨是是由電動(dòng)機(jī)通過(guò)皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒（或稱(chēng)為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱(chēng)為定子）作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過(guò)本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過(guò)膠體磨定,轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力,摩擦力,高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化,分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化 分散 的效果。詳情請(qǐng)接洽上海依肯,段，手機(jī)，（同號(hào)) 

 

 分子篩漿料分子篩是指具有均勻的微孔,其孔徑與一般分子大小相當(dāng)?shù)囊活?lèi)物質(zhì)。分子篩的應(yīng)用非常廣泛,可以作高效干燥劑,選擇性吸附劑,催化劑,離子交換劑等,但是使用化學(xué)原料合成分子篩的成本很高。常用分子篩為結(jié)晶態(tài)的硅酸鹽或硅鋁酸鹽,是由硅氧四面體或鋁氧四面體通過(guò)氧橋鍵相連而形成分子尺寸大?。ㄍǔ?.3~2 nm）的孔道和空腔體系,因吸附分子大小和形狀不同而具有篩分大小不同的流體分子的能力。

 

漿料的淹沒(méi)效果分析

影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)

 

2 膠體磨磨頭頭的剪切速率 （越大,效果越好）

3 膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒,中齒,細(xì)齒,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好）

4 物料在研磨腔體的停留時(shí)間,研磨粉碎時(shí)間（可以看作同等的電機(jī),流量越小,效果越好）

5 循環(huán)次數(shù)（越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好）

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線速度的計(jì)算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s) 
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

 

速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60

 

IKN納米膠體磨與國(guó)內(nèi)膠體磨的性能比較：

 

一,轉(zhuǎn)速和剪切速率：IKN納米膠體磨,可選擇德國(guó)機(jī)械密封,轉(zhuǎn)速可以達(dá)到15000轉(zhuǎn)F=23/0.7X1000=32857S-1F=40/0.7/X1000=57142S-1國(guó)內(nèi)膠體磨,可選擇機(jī)械密封一般3000轉(zhuǎn),大約在14293-215440S-1通過(guò)轉(zhuǎn)速比較可知,這是乳粉碎研磨的重要因素,相當(dāng)于前者是后者的2-3倍

二,膠體磨頭和間距：IKN納米膠體磨,可以選擇六種不同的模塊頭,實(shí)現(xiàn)多種功能,如三級(jí)乳化模塊,超高速模塊,CM膠體模塊,CMO膠體模塊,批次粉液液混合模塊,連續(xù)粉液混合模塊。間距可調(diào),可實(shí)現(xiàn)1-10微米小粒徑材料加工國(guó)內(nèi)膠體磨,只有一種模塊頭,粒徑細(xì)度有限,100微米以下較困難,重復(fù)性差

 

三,機(jī)械密封：IKN納米膠體磨,雙機(jī)械密封,易于清洗,將泄漏降至zui低,可24小時(shí)不停運(yùn)轉(zhuǎn)國(guó)內(nèi)膠體磨,單機(jī)械密封或軸封,泄漏故障率高,產(chǎn)品泄漏進(jìn)入馬達(dá),造成馬達(dá)燒毀

磨具體設(shè)備咨詢(xún)：

 

定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。

②齒列的深度：從開(kāi)始的2.7mm 到末端的0.7mm,范圍比較大,范圍越大,處理的物料顆粒大小越廣。
③溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒,每個(gè)磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。

 

氧化鋁漿料膠體磨,分子篩漿料膠體磨 ,氧化鋁高速膠體磨

附件中是我公司物料的一部分性質(zhì),請(qǐng)根據(jù)物料性質(zhì),簡(jiǎn)單判斷一下,大約需要做多少次試驗(yàn)。

2,目前我公司輸送該物料用的是砂漿泵,非轉(zhuǎn)子泵。

3,我們的目的是用膠體磨把大于100微米的顆粒粉碎至50微米以下。

4,顆粒主要成分為硅鋁酸鹽,硬度較硬,但硬度我們沒(méi)有數(shù)據(jù)。

5,我們6月1日投產(chǎn),以后都有物料,可以進(jìn)行試驗(yàn)。

6,物料易沉淀,沉淀后很難重新混合。

 

的細(xì)化作用一般來(lái)說(shuō)要強(qiáng)于均質(zhì)機(jī),但它對(duì)物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)（如高粘度,大顆粒）,所以在很多場(chǎng)合下,它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場(chǎng)合。

研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是：在粗精度,中等精度,細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù),狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

設(shè)備等級(jí)：化工級(jí),衛(wèi)生I級(jí),衛(wèi)生II級(jí),無(wú)菌級(jí)

電機(jī)形式：普通馬達(dá),變頻調(diào)速馬達(dá),防爆馬達(dá),變頻防爆馬達(dá),
電源選擇： 380V/50HZ,220V/60HZ,440V/50HZ
電機(jī)選配件： PTC 熱保護(hù),降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì)：SUS304 ,SUS316L ,SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配：儲(chǔ)液罐,排污閥,變頻器,電控箱,移動(dòng)小車(chē)
研磨分散機(jī)表面處理：拋光,耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭,螺口,夾箍
研磨分散機(jī)選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

研磨分散機(jī)	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類(lèi)型	l/h	rpm	m/s	kW
CMD 2000/4	300	9,000	23	2.2	DN25/DN15
CMD 2000/5	3000	6,000	23	7.5	DN40/DN32
CMD 2000/10	8000	4,200	23	22	DN80/DN65
CMD 2000/20	20000	2,850	23	37	DN80/DN65
CMD 2000/30	40000	1,420	23	55	DN150/DN125
CMD2000/50	120000	1,100	23	110	DN200/DN150
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。

2 處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產(chǎn)品的要求。

 

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