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氧化石墨烯導電薄膜高速研磨分散機,氧化石墨烯導電薄膜高剪切分散設備廠家

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  • 型號 CMSD2000
  • 品牌
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 上海

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更新時間:2017-06-13 15:51:34瀏覽次數(shù):565

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產(chǎn)品簡介

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詳細介紹

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沈陽材料科學國家(聯(lián)合)實驗室*炭材料研究部利用上海依肯機械設備的研磨分散機對氧化石墨烯(GO)表面含氧官能團的組成、氫鹵酸與GO反應原理以及鹵素原子與碳原子之間成鍵時的鍵能等進行了系統(tǒng)分析,提出了利用氫碘酸、氫溴酸等鹵化物還原GO的方法,實現(xiàn)了GO在較低的溫度下(≤100℃)的快速、高效還原,所得石墨烯的碳氧比可達12以上。

 

 

石墨烯(Graphene)由于結構*、性能優(yōu)異、理論研究價值高、應用遠景廣闊而備受關注。氧化石墨烯(GO)是含有豐富含氧官能團的石墨烯衍生物,可通過化學氧化剝離廉價的石墨而得,隨后通過還原處理可制成石墨烯。 氧化石墨烯(GO)具有良好的水溶性,易于成膜。于是可利用氧化石墨烯(GO)溶液成膜,再對氧化石墨烯薄膜進行還原處理而制成的石墨烯透明導電膜,它是石墨烯重要應用之一,石墨烯透明導電膜以其資源豐富、良好的化學穩(wěn)定性和柔韌性有可能取代資源缺乏、脆性的銦錫氧化物(ITO)成為新一代的透明導電膜,分散頭
           

石墨烯(Graphene)由于結構*、性能優(yōu)異、理論研究價值高、應用遠景廣闊而備受關注。氧化石墨烯(GO)是含有豐富含氧官能團的石墨烯衍生物,可通過化學氧化剝離廉價的石墨而得,隨后通過還原處理可制成石墨烯。 

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氧化石墨烯(GO)具有良好的水溶性,易于成膜。于是可利用氧化石墨烯(GO)溶液成膜,再對氧化石墨烯薄膜進行還原處理而制成的石墨烯透明導電膜,它是石墨烯重要應用之一,石墨烯透明導電膜以其資源豐富、良好的化學穩(wěn)定性和柔韌性有可能取代資源缺乏、脆性的銦錫氧化物(ITO)成為新一代的透明導電膜,在柔性顯示領域表現(xiàn)出巨大的應用潛力。


石墨烯的應用十分廣泛,如:石墨烯鋰電池漿料、石墨烯導電漿料、石墨烯涂料、石墨烯復合材料、石墨烯潤滑油等等。石墨烯漿料zui大的難點就是分散問題,石墨烯分散到NMP中,石墨烯分散到水中,石墨烯分散到潤滑油中,都要解決一個研磨分散剝離的問題。

石墨粉體本身很細小,分散到液體介質(zhì)(水或NMP或硅油)中,容易形成團聚,難以分散,所以需要先研磨,打開團聚體,再進行分散。特別適合使用IKN研磨分散機,先研磨后分散,瞬間處理,效果更佳。

       
上海依肯專業(yè)從事于石墨烯設備的生產(chǎn)和研發(fā),有著豐富的經(jīng)驗積累,跟常州、無錫、長春、寧波、濰坊、深圳、廈門、東莞等地大型鋰電石墨烯、碳納米管生產(chǎn)企業(yè)有著深度合作。以及石墨烯衍生產(chǎn)品,石墨烯涂料、石墨烯潤滑油、石墨烯復合材料等都有著足夠的經(jīng)驗。

由于石墨烯的特殊結構,采用砂磨機容易破壞片層結構。所以目前大多數(shù)廠家都在使用我司高剪切研磨分散機進行石墨烯漿料的處理,研磨分散機是將膠體磨(研磨機)和分散機合二為一的設備。工作原理為定轉子高速運轉產(chǎn)生強大的剪切力、離心力,對物料進行剪切、剝離、分散、細化。所以特別適合石墨烯漿料的生產(chǎn),并且不容易破壞片層結構。
    
分散頭
上海IKN在石墨烯領域的應用成功,為石墨烯行業(yè)的發(fā)展提供了設備支持,得到了充分的認可。IKN石墨烯研磨分散設備采用德國*的高速研磨分散技術,通過超高轉速(zui高可達14000rpm)帶動超高精密的磨頭定轉子(通常配CM+8SF,定轉子間隙在0.2-0.3之間)使石墨烯漿料在設備的高線速度下形成湍流,在定轉子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì),從而得出超細的顆粒(當然也需要合適的分散劑做助劑)。綜合以上幾點可以得出理想的導電石墨烯漿料。
               
 石墨烯分散設備是膠體磨(研磨機)和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。 

    
*級由具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

    
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

 

中科院金屬研究所的科研職員發(fā)現(xiàn),用上海依肯機械的設備的設備新方法不僅可以實現(xiàn)對GO粉體的大量高效還原,而且非常適合于對GO薄膜進行直接還原。還原后所得石墨烯薄膜的體積電導率可以達到3×104S/m,明顯優(yōu)于已有化學還原方法的效果。更重要的是,還原處理在往除薄膜層間含氧官能團的同時,反應產(chǎn)物以液相的形式從薄膜內(nèi)部析出,產(chǎn)生的毛細作用力使薄膜厚度明顯減小、結構更加致密,進步了石墨烯片層之間的結協(xié)力,因此還原后得到的石墨烯薄膜在導電性、力學強度和柔韌性等方面都有了明顯的進步,解決了現(xiàn)有還原方法破壞薄膜結構的瓶頸題目。該研究還通過氫碘酸還原由大片GO組裝而成的薄膜直接制備出在84%透光率下,表面電阻為1kΩ/□以下的柔性石墨烯透明導電薄膜,使得通過低溫化學還原處理制備高質(zhì)量的石墨烯透明導電膜成為可能,為石墨烯透明導電薄膜在柔性器件領域的廣泛應用奠定了基礎。

 
石墨烯薄膜分散設備選型表

型號

流量

L/H

轉速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

CMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

CMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

CMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

CMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

CMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。

1.表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

2.處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產(chǎn)品的要求。

3.如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數(shù),以便選型和定制。

4.本表的數(shù)據(jù)因技術改動,定制而不符,正確的參數(shù)以提供的實物為準.

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