HMDS烘箱系列

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產(chǎn)品型號HMDS系列

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更新時間：2022-09-19 15:28:55瀏覽次數(shù)：780次

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低溫箱

高低溫箱

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高低溫交變試驗箱

高低溫試驗箱
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高低溫交變濕熱試驗箱

高低溫兩廂|三廂沖擊試驗箱
  行業(yè)定制干燥設備

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高溫無塵無氧烘箱

高溫厭氧烘箱

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定制型高溫充氮烘箱

橡膠二次硫化烘箱

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汽車座椅預熱烘箱
  普及型真空設備

電熱真空干燥箱

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半自動電熱真空干燥箱

全自動智能真空干燥箱

全自動智能真空烘箱
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10pa以下高真空|500℃真空箱

高溫真空氣氛爐|退火爐

HMDS預處理真空烘箱

真空攪拌脫泡箱

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快速升降溫真空干燥箱

制藥GMP車間真空干燥箱

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多腔體真空干燥箱

冷凝器（冷阱）|冷卻水裝置
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400℃高溫烘箱

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電熱恒溫培養(yǎng)箱

隔水式恒溫培養(yǎng)箱

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霉菌培養(yǎng)箱

恒溫恒濕培養(yǎng)箱

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  防潮存儲設備

中濕度電子防潮箱(20-60%RH)

超低濕電子防潮箱(1-10%RH)

低濕度電子防潮柜(10-20%RH)

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  真空烘箱
  超低濕度防潮箱(1-10%RH)
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  中濕度防潮箱(20-60%RH)
  真空攪拌機
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  高低溫濕熱試驗箱
  高低溫交變試驗箱
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  精密熱風循環(huán)烘箱
  500度熱風循環(huán)烘箱
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  臺式300度熱風循環(huán)烘箱
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  恒溫恒濕試驗箱
  精密型充氮烘箱
  無塵工業(yè)烤箱
  大型鼓風干燥箱
  隧道烘箱
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  HMDS烘箱
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上海和呈儀器制造有限公司

經(jīng)營模式：生產(chǎn)廠家

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產(chǎn)品簡介

HMDS烘箱特點：在半導體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環(huán)節(jié)，涂膠質量直接影響到光刻的質量，涂膠工藝也顯得尤為重要

詳細介紹

HMDS烘箱特點：
在半導體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環(huán)節(jié)，涂膠質量直接影響到光刻的質量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉移的失敗，同時濕法腐蝕容易發(fā)生側向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況

HMDS烘箱特點：
1、HMDS烘箱機外殼采用不銹鋼SUS304材質制造，內膽為不銹鋼316L材料制成；加熱器均勻分布在內膽外壁四周，內膽內無任何電氣配件及易燃易爆裝置。鋼化、雙層玻璃門觀察工作室內物體一目了然。
2、烘箱箱門閉合松緊能調節(jié)，整體成型的硅橡膠門封圈，確保箱內高真空度。
3、微電腦智能控溫儀，具有設定，測定溫度雙數(shù)字顯示和PID自整定功能，控溫精確，可靠。
4、智能化觸摸屏控制系統(tǒng)配套日本三菱PLC模塊可供用戶根據(jù)不同制程條件改變程序，溫度，真空度及每一程序時間。
5、HMDS氣體密閉式自動吸取添加設計，真空箱密封性能佳，確保HMDS氣體無外漏顧慮。
6、整個系統(tǒng)采用優(yōu)質材料制造，無發(fā)塵材料，適用100 級光刻間凈化環(huán)境。

HMDS烘箱技術參數(shù)：
電源電壓：AC 380V±10%/50Hz±2%
輸入功率：4000W
控溫范圍：室溫+10℃-250℃
溫度分辨率：0.1℃
溫度波動度：±0.5℃
達到真空度：133Pa
容積：210L
工作室尺寸（mm）：560*640*600
外形尺寸（mm）：720*820*1050
載物托架：3塊
時間單位：分鐘
選配件
真空泵：德國品牌，萊寶“DC”雙極系列旋片式油泵，極限真空高，噪音低，運行穩(wěn)定。連接管：不銹鋼波紋管，*密封將真空泵與烘箱連接。

HMDS烘箱的必要性：
在半導體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環(huán)節(jié)，涂膠質量直接影響到光刻的質量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉移的失敗，同時濕法腐蝕容易發(fā)生側向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯(lián)劑的作用。

HMDS烘箱的原理：
HMDS烘箱通過對烘箱HMDS預處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。

HMDS烘箱的一般工作流程：
先確定HMDS烘箱工作溫度。典型的預處理程序為：打開真空泵抽真空，待腔內真牢度達到某一高真空度后，開始充人氮氣，充到達到某低真空度后，冉次進行抽真空、充入氮氣的過程，到達設定的充入氮氣次數(shù)后，開始保持一段時間，使硅片充分受熱，減少硅片表面的水分。然后再次開始抽真空，充入HMDS氣體，在到達設定時間后，停止充入HMDS藥液，進入保持階段，使硅片充分與HMDS反應。當達到設定的保持時間后，再次開始抽真空。充入氮氣，完成整個作業(yè)過程。HMDS與硅片反應機理如圖：先加熱到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS與表面的OH一反應，在硅片表而生成硅醚，消除氫鍵作，從而使極性表面變成非極性表面。整個反應持續(xù)到空間位阻(三甲基硅烷基較大)阻止其進一步反應。

尾氣排放等：多余的HMDS蒸汽（尾氣）將由真空泵抽出，排放到專用廢氣收集管道。在無專用廢氣收集管道時需做專門處理。

關鍵詞：PLC 真空泵