激光物質 | Nd3+: YVO4 |
激光波長 | 1064 nm |
調制頻率 | 1-200 kHz |
激光功率 | 20 W |
光束發(fā)散角 | ≤2.0 mrad |
脈寬 | 35 ns |
重復定位精度 | ±10 nm |
刻膜速度 | 800-1500 mm/s |
額定輸入電壓 | AC 380V ±10%, 50Hz/60Hz |
zui大輸入功率 | 12 kVA |
外形尺寸 | 4500mm×2500mm×1700mm |
凈重 | ≥6000Kg |
冷卻方式 | 水冷 |
刻蝕項目 | TCO: SnO2, ZnO |
刻膜規(guī)格 | 1400×1100mm 1250×635mm |
刻膜寬度 | 30-60μm |
三線總寬 | 300-500μm |