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日本AMAYA株式會社天谷制作所柔性常壓CVD設(shè)備D501系列

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具體成交價以合同協(xié)議為準

公司名稱埃登威自動化系統(tǒng)設(shè)備（上海）有限公司
品牌
型號
所在地上海市
廠商性質(zhì)
更新時間2025/3/13 10:56:11
訪問次數(shù)5

產(chǎn)品標簽:

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日本AMAYA株式會社天谷制作所用于小規(guī)模生產(chǎn)和開發(fā)的柔性常壓CVD設(shè)備D501系列用于小規(guī)模生產(chǎn)和開發(fā)的柔性常壓CVD設(shè)備D501系列用于將多個晶圓裝入大托盤的間歇式常壓CVD設(shè)備特征這是一種間歇式常壓CVD系統(tǒng)，其中多個晶圓被裝入一個大托盤中，托盤在分散頭下往復(fù)運動以形成薄膜。它可用于變形的基材。它具有緊湊的儀器尺寸和較小的占地面積。性能均勻的薄膜厚度取決于薄膜類型和厚度支持的晶圓尺寸根據(jù)可加

日本AMAYA株式會社天谷制作所柔性常壓CVD設(shè)備D501系列產(chǎn)品信息

日本AMAYA株式會社天谷制作所

用于小規(guī)模生產(chǎn)和開發(fā)的柔性常壓CVD設(shè)備D501系列

用于小規(guī)模生產(chǎn)和開發(fā)的柔性常壓CVD設(shè)備

D501系列

用于將多個晶圓裝入大托盤的間歇式常壓CVD設(shè)備

特征

這是一種間歇式常壓CVD系統(tǒng)，其中多個晶圓被裝入一個大托盤中，托盤在分散頭下往復(fù)運動以形成薄膜。
它可用于變形的基材。
它具有緊湊的儀器尺寸和較小的占地面積。

性能

均勻的薄膜厚度	取決于薄膜類型和厚度
支持的晶圓尺寸	根據(jù)可加熱區(qū)
氣體種類	SiH4， O 2， PH 3， B 2 H6， N 2（TEOS， TEB， TMOP，O3， TMA 可選）
薄膜沉積溫度	350°C~450°C
生產(chǎn)力	-

主要規(guī)格

設(shè)備尺寸	1200毫米（寬） x 2480毫米（深） x 1940毫米（高）
加熱機構(gòu)	電阻加熱
裝載卸載	手動方法
分散頭（氣體噴嘴）	A63頭