超純水設(shè)備用途：

■半導(dǎo)體行業(yè)：用于晶元6~12寸切割、清洗、再生、封測用水、半導(dǎo)體設(shè)備清洗、電子級無塵布無塵服清洗。

■太陽能光伏行業(yè)：單晶硅、多晶硅切片清洗、太陽能電池、石英坩堝、多晶硅方舟、光伏玻璃、高純硅粉

■LCD、LED、OLED生產(chǎn)清洗用水，光學(xué)攝像頭清洗，光學(xué)材料清洗，導(dǎo)電玻璃清洗； ■半導(dǎo)體集成電路板，線路板生產(chǎn)清洗用超純水；

■鋰電池材料（磷酸鐵鋰、三元材料、鋰電池隔膜）、蓄電池、鋅錳電池生產(chǎn)用水

■電子級超純化學(xué)試劑用純水，納米級電子陶瓷材料純水、磁性材料用純水、有色金屬、貴金屬冶煉用水、航空新材料生產(chǎn)用水、電容器材料腐蝕化成工藝用水。

超純水設(shè)備參考標(biāo)準(zhǔn)：

電子工業(yè)純水系統(tǒng)設(shè)計(jì)規(guī)范                        GB50685-2011

?中國電子級水質(zhì)技術(shù)指標(biāo)                          GB/T11446.1-2013

?電子級水測試方法通則                            GB/T 11446.3-2013

?電子級水電阻率的測試方法                        GB/T11446.4-2013

?電子級水中痕量金屬的原子吸收分光光度測試方法    GB/T114465-2013

?電子級水中痕量陰離子的離子色譜測試方法          GB/T11446.72013

?電子級水中總有機(jī)碳的測試方法                    GB/T 11446.8-2013

?電子級水中微粒的儀器測試方法                    GB/T 11446.9 -2013

?電子級水細(xì)菌總數(shù)的濾膜培養(yǎng)測試方法              GB/T 11446.10-2013

?美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)

超純水設(shè)備常用工藝：