(Φ200)1200度雙溫區(qū)管式爐 的詳細介紹
設備用途
本設備是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬，非金屬及其它化合物進行真空燒結、氣氛保護燒結、真空鍍膜、氣氛還原燒結、CVD實驗、真空退火﹑熔化﹑物質成分測量分析而研制的專用理想設備。
應用領域
半導體、納米材料、碳纖維、石墨烯等新材料、稀土制備、電子照明、晶體退火、生物陶瓷、電子陶瓷、特種合金、磁性材料、精密鑄造、金屬熱處理等行業(yè)領域。
技術參數
設備名稱：1200度雙溫區(qū)管式爐
設備型號：MXG1200-200II
爐管材質：石英管
爐管尺寸：外徑200*內徑190*長度1200*壁厚5mm
加熱區(qū)尺寸：300+300
恒溫區(qū)尺寸：120+120，若每個溫區(qū)溫度設置一致，則恒溫區(qū)為400mm
溫度：1200度(1小時)
工作溫度：≤1100度(連續(xù))
工作電源：單相 220V 50/60Hz 8.5Kw
加溫
加熱元件：電阻絲，環(huán)形加熱
升溫速率：20℃/min
測溫
測溫元件：N型熱電偶
控溫
溫控儀表：數顯儀表，智能化30段PID可編程控制。
控溫精度：±1℃，超溫報警
保溫
保溫材料：多晶氧化鋁纖維材料，保溫效果好，熱能損耗少。
充氣正壓：≤ 0.02MPa
可通氣體：惰性氣體和還原性氣體等。
法蘭（爐管兩端配有不銹鋼密封CF法蘭，包括精密針閥、指針式真空壓力表、軟管接頭，若有特殊需求，可選配以下法蘭）
1、聚四氟乙烯法蘭，用于有腐蝕環(huán)境。
2、水冷法蘭，用于更好防止密封圈老化。
3、KF法蘭，用于更好真空實驗需求。
真空（根本實際需要選配以下不同效果的真空泵或真空系統(tǒng)）
1、標準旋片式機械真空泵，直插接口，極限真空可達50Pa。
2、DZK10-1低真空系統(tǒng)，KF接口，極限真空可達1*10-1Pa。
3、GZK10-3高真空系統(tǒng)，KF接口，極限真空可達1*10-3Pa。
打開方式：向上開啟式，為了保證使用安全，本設備設計有開啟斷電功能。
外形尺寸：寬*深*高mm
包裝尺寸：
設備凈重：Kg
包裝毛量：
設備包箱：木箱+珍珠棉+防塵膜
發(fā)貨物流：送貨上門，不含卸貨。
質 保 期：一年，相關耗材除外，如加熱元件等易耗件
標準配件
坩堝鉗1把、剛玉舟1只、爐鉤1把、管堵2只、石英管1根、304法蘭1套、密封圈4只、浮子流量計1只、耐高溫手套1雙、產品說明書1份、儀表說明書1份、保修證書1份。
可選配件
1、二三四路浮子或質子流量供氣系統(tǒng)。
2、DZK10-1低真空系統(tǒng)或GZK10-3高真空系統(tǒng)。
3、300W或500W等離子射頻電源。
4、可選配移動爐架，將管式爐放置在爐架上。
注意事項
1、為了不影響設備正常使用壽命，請不要過快升降溫。
2、請不要往管內通入超過0.02MPa的氣體壓力。
3、本設備使用一段時間后，爐膛會出現(xiàn)微小裂紋，屬于正常現(xiàn)象，不會影響使用，可向業(yè)務人員免費索取氧化鋁涂層修補劑。
4、由于氣瓶內部氣壓較高，所以向爐管內通入氣體時，氣瓶上必須安裝減壓閥，建議在本公司選購減壓閥，本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全。
5、當爐體溫度高于1000℃時，爐管內不可處于真空狀態(tài)，爐管內的氣壓需和大氣壓相當，保持在常壓狀態(tài)。
6、進入爐管的氣體流量需小于200SCCM，以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊
7、石英管的長時間使用溫度≤1100℃
8、對于只對樣品加熱的實驗（不抽真空不通氣體），不建議使用時關閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥。若需要關閉氣閥對樣品加熱，您必須時刻關注壓力表的指數（氣壓會隨溫度升降而變化），若壓力表指數大于0.02MPa，必須立刻打開泄氣閥，以防意外發(fā)生（如爐管破裂，法蘭飛出等）。
