SPM的控制電路也是影響性能的重要因素,第五代的NanoScope V控制器具有的數(shù)字架構(gòu):具有高數(shù)據(jù)帶寬,低噪聲數(shù)據(jù)采集和的數(shù)據(jù)處理能力。布魯克的的技術(shù)已經(jīng)開(kāi)創(chuàng)工業(yè)上的新標(biāo)準(zhǔn),例如:ScanAsyst 模式 & PeakForce QNM 模式。
Multimode 的加熱和制冷裝置能對(duì)樣品進(jìn)行加熱與制冷,適合于生物學(xué),聚合物材料以及其他材料研究應(yīng)用。采用加熱和制冷裝置后MULTIMODE 可在零下35oC到250 oC范圍內(nèi)對(duì)樣品進(jìn)行溫度控制;并可以在水,溶液或緩沖劑的液體環(huán)境中進(jìn)行掃描。當(dāng)在氣體環(huán)境下對(duì)樣品進(jìn)行掃描時(shí),采用環(huán)境控制艙可以在大氣壓標(biāo)準(zhǔn)下控制環(huán)境氣體的成分。
技術(shù)參數(shù):
1. 顯微鏡:多種可選Multimode SPM掃描頭
AS-0.5系列:橫向(X-Y)范圍0.4µm×0.4µm,豎直(Z)范圍0.4µm
AS-12系列:橫向(X-Y)范圍10µm×10µm,豎直(Z)范圍2.5µm
AS-130系列:橫向(X-Y)范圍125µm×125µm,豎直(Z)范圍5.0µm
PF50:橫向(X-Y)范圍40µm×40µm,豎直(Z)范圍20µm
2. 噪聲:垂直(Z)方向上的RMS值<0.3埃 (帶防震系統(tǒng)的測(cè)量值)
3. 樣品大?。褐睆健?5mm, 厚度≤5mm
4. 針尖/懸臂支架:
空氣中輕敲模式/接觸模式(標(biāo)準(zhǔn))
液體中輕敲模式/力調(diào)制(可選)
空氣中力調(diào)制(可選);電場(chǎng)模式(可選)
掃描熱(可選-需要大的光學(xué)頭或者外加的應(yīng)用組件)
STM轉(zhuǎn)換器(可選)
低電流STM轉(zhuǎn)換器(可選);接觸模式液體池(可選)
電化學(xué)AFM或STM液體池(可選)
扭轉(zhuǎn)共振模式(可選)
5. 防震和隔音:
硅膠共振模式(可選)
防震三腳架(可選) ;防震臺(tái)(可選)
集成的防震臺(tái)和隔音罩(可選)
主要特點(diǎn):
1. 高的分辨率
2. 出眾的掃描能力
3. 優(yōu)異的可操作性
4. 非凡的靈活性與功能性
5. 無(wú)限的應(yīng)用擴(kuò)展性
Multimode可以實(shí)現(xiàn)全面的SPM表面表征技術(shù),包括:
輕敲模式(Tapping Mode AFM)
接觸模式(Contact Mode AFM)
自動(dòng)成像模式(ScanAsyst)
相位成像模式(Phase Imaging)
橫向力術(shù)模式(laterial Force Microscopy, LFM)
磁場(chǎng)力顯微術(shù)(Magnetic Force Microscopy, MFM)
掃描隧道顯微術(shù)(Scanning Tunneling Microscopy, STM)
力調(diào)制(Force Modulation)
電場(chǎng)力顯微術(shù)(Electric Force Microscopy, EFM)
掃描電容掃描術(shù)(Scanning Capacitance Mcroscopy, SCM)
表面電勢(shì)顯微術(shù)(Surface Potential Microscopy)
力曲線和力陣列測(cè)量(Force-Distance and Force Volume Measurement)
納米壓痕/劃痕(Nanoindenting/Scratching)
電化學(xué)顯微術(shù)(Electrochemical Microscopy, ECSTM and ECAFM)
皮牛力譜(PicoForce Force Spectroscopy)
隧道原子力顯微術(shù)(Tunneling AFM, TUNA)
導(dǎo)電原子力顯微術(shù)(Conductive AFM, CAFM)
掃描擴(kuò)散電阻顯微術(shù)(Scanning Spreading Resistance Microscopy, SSRM)
扭轉(zhuǎn)共振模式(Torsional Resonance mode, TR mode)
壓電響應(yīng)模式(Piezo Respnance mode, PR mode)
其他更多模式....