※溫馨提示※
本產(chǎn)品價(jià)格僅為參考價(jià)格,由于儀器配置不同,檢測(cè)樣品種類不一樣,對(duì)儀器的要求也不同,所以展示的價(jià)格并不是最終的價(jià)格,如給您帶來(lái)不便請(qǐng)諒解。
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HS400行星式球磨儀
產(chǎn)品簡(jiǎn)介:
HS400高性能型行星式球磨儀是一臺(tái)穩(wěn)定,高性能的儀器,可將樣品研磨至微米/納米級(jí)別。該儀器適合對(duì)軟性、中硬性、硬性、脆性樣品進(jìn)行研磨(干磨或濕磨)及混合處理,且研磨結(jié)果均勻具有可重復(fù)性,適用于地礦,土壤,冶金,電子,電力,材料,化工,醫(yī)藥,美容,環(huán)保,陶瓷,玻璃,核研究等科研和產(chǎn)業(yè)部門(mén)。
應(yīng)用:
HS400高性能型行星式球磨儀適用于地質(zhì)學(xué)、礦物學(xué)、陶瓷工業(yè)、化工、生物學(xué)、制藥業(yè)、礦物學(xué)研究、建筑行業(yè)、冶金、電子工業(yè)、玻璃工業(yè)、 核研究、材料研究、土壤研究、光譜及X熒光分析。
理化分析前處理、膠體研磨、新型材料和機(jī)械合金的制備等方面。
粉碎、混合、均化、膠體碾磨、機(jī)械合金
陶瓷工業(yè):燒結(jié)陶瓷、電陶瓷、黏土等
建筑行業(yè):礦渣、石料、水泥等
工作原理:
當(dāng)儀器啟動(dòng)后,電動(dòng)馬達(dá)帶動(dòng)儀器公共的太陽(yáng)輪轉(zhuǎn)動(dòng),而位于太陽(yáng)輪上偏心位置的研磨罐則與太陽(yáng)輪作反向的自轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng),而研磨罐、研磨球、樣品,在太陽(yáng)輪的公轉(zhuǎn)與研磨罐的反向自轉(zhuǎn)的運(yùn)動(dòng),同時(shí)受到受到旋轉(zhuǎn)偏向力的疊加影響下,研磨球產(chǎn)生大量的動(dòng)能,研磨球與樣品會(huì)會(huì)沿著不同的運(yùn)行軌跡運(yùn)行,產(chǎn)生了不斷地強(qiáng)撞擊摩擦的組合從而達(dá)到高效能的研磨粉碎的效果。
儀器特點(diǎn):
大液晶觸摸屏控制,正轉(zhuǎn)、反轉(zhuǎn)、時(shí)間設(shè)定、程序設(shè)定方便,可進(jìn)行正轉(zhuǎn)、反轉(zhuǎn)、時(shí)間等程序設(shè)定。
大液晶觸摸屏顯示,運(yùn)行狀態(tài)一目了然,運(yùn)行過(guò)程隨時(shí)可改變,曲線顯示。
控制模式:手動(dòng)運(yùn)行和全自動(dòng)運(yùn)行
安全方面:
(1)帶電子監(jiān)控裝置,馬達(dá)超負(fù)荷自動(dòng)停止
(2)行星輪采用雙鎖緊方式:高壓入槽然后底部螺絲帽鎖死。輸入能力再大也無(wú)法脫節(jié), 杜絕意外發(fā)生。
(3)升降蓋附帶電子鎖,安全、可靠,艙門(mén)開(kāi)啟時(shí)球磨儀無(wú)法運(yùn)轉(zhuǎn)
(4)球磨罐固定把手內(nèi)置防退齒輪設(shè)計(jì),即使高速運(yùn)轉(zhuǎn)也無(wú)法使把手松懈。卸罐時(shí),只需要提起卸閥器就可以輕松卸下球磨罐
技術(shù)特點(diǎn):
強(qiáng)勁及快速研磨,達(dá)到納米級(jí)細(xì)度
適合長(zhǎng)時(shí)間制樣及連續(xù)運(yùn)行
轉(zhuǎn)速可調(diào),運(yùn)行平穩(wěn)
控制模式:全自動(dòng)運(yùn)行
研磨室密封防塵設(shè)計(jì),帶觀察窗
一次可處理多達(dá)8種樣品
輸入能量和轉(zhuǎn)速的控制,使研磨結(jié)果具有高度的可重復(fù)性
兩種不同的研磨模式(干磨和濕磨)
多種材料的研磨罐、通氣罐可選
大液晶觸摸屏操作顯示,程序設(shè)定方便
超低噪音,運(yùn)轉(zhuǎn)噪音低,環(huán)保
根據(jù)實(shí)驗(yàn)要求選配真空和溫度無(wú)線接收、顯示系統(tǒng)
技術(shù)參數(shù):
型號(hào) | HS400 |
研磨方式 | 干磨或者濕磨 |
控制模式 | 全自動(dòng)運(yùn)行 |
程序設(shè)定 | 正轉(zhuǎn)反轉(zhuǎn)、轉(zhuǎn)速、時(shí)間的設(shè)定 |
進(jìn)樣尺寸 | ≤15mm |
出粒細(xì)度 | 最小出?!?.1μm(膠體研磨) |
研磨平臺(tái) | 4個(gè) |
轉(zhuǎn)速 | 20-400轉(zhuǎn)/分鐘(液晶屏顯示) |
研磨罐容量 | 50 - 500ml (可選) |
研磨時(shí)間設(shè)定 | 1-99h59min(液晶屏顯示) |