分散乳化均質(zhì)機用途

本機組成適用于化妝品廠，藥廠的膏，霜類產(chǎn)品的生產(chǎn)，尤其對基質(zhì)粘度大，固含量比較高的物粒料乳化配制更顯功效。

分散乳化均質(zhì)機原理

物料在水鍋、油鍋內(nèi)通過加熱、攪拌進行混合反應(yīng)后，由真空泵吸入乳化鍋，通過乳化鍋內(nèi)上部的中心攪拌、聚四氟乙烯刮板始終迎合攪拌鍋形體，掃凈掛壁粘料，使被括取地物料不斷產(chǎn)生新界面，再經(jīng)過葉片與回轉(zhuǎn)葉片的剪斷、壓縮、折疊，使其攪拌、混合而向下流往鍋體下方的均質(zhì)器處，物料再通過高速旋轉(zhuǎn)的切割輪與固定的切割套之間所產(chǎn)生的強力的剪斷、沖擊、亂流等過程，物料在剪切縫中被切割，迅速破碎成200nm-2um的微粒，由于乳化鍋內(nèi)處于真空狀態(tài)，物料在攪拌過程中產(chǎn)生的氣泡被及時抽走。

特點
本機組操作簡便，性能穩(wěn)定，均質(zhì)性好，生產(chǎn)效率高，清洗方便，結(jié)構(gòu)合理，占地面積少，自動化程度高等特點。

優(yōu)點
本機組采用上部同軸三重型攪拌器，液壓升降開蓋，快速均質(zhì)攪拌器轉(zhuǎn)速：0-3500r/min(變頻調(diào)速），慢速刮壁攪拌器轉(zhuǎn)速：10-45r/min(變頻調(diào)速），均質(zhì)頭采用高剪切渦流式乳化攪拌機，慢速刮壁攪拌自動緊貼鍋底及鍋壁，采用真空吸料，特別對粉體物料利用真空吸入避免粉塵飛揚。整個工序在真空條件下進行，防止物料在高速攪拌后產(chǎn)生氣泡，能達到衛(wèi)生無菌要求。本系統(tǒng)配有CLP清洗裝置，防與物料接觸部分SUS316L（SUS304）材料制造，內(nèi)表面鏡面拋光300EMSH（衛(wèi)生級）為了確保控制部分的穩(wěn)定、電器控制部分采用公司的產(chǎn)品，按紐采用日本富土公司產(chǎn)品，變頻器采用日本松下電工，真空泵采用西門子公司產(chǎn)品。本機組成*按照GMP要求制造的生產(chǎn)設(shè)備。