100T/H電子行業(yè)超純水設(shè)備特點(diǎn)

　　100T/H電子行業(yè)超純水設(shè)備不需要化學(xué)再生，可連續(xù)運(yùn)行，進(jìn)而不需要傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交換設(shè)備再生所需的酸堿液，以及再生所排放的廢水。其主要特點(diǎn)如下：

　　1、連續(xù)運(yùn)行，產(chǎn)品水水質(zhì)穩(wěn)定。

　　2、容易實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)控制。

　　3、無(wú)須用酸堿再生。

　　4、不會(huì)因再生而停機(jī)。

　　5、節(jié)省了再生用水及再生污水處理設(shè)施。

　　6、產(chǎn)水率高(可達(dá)95%)。

　　7、無(wú)須酸堿儲(chǔ)備和酸堿稀釋運(yùn)送設(shè)施。

　　8、占地面積小。

　　9、使用安全可靠，避免工人接觸酸堿。

　　10、降低運(yùn)行及維護(hù)成本。

　　11、設(shè)備單元模塊化，可靈活的組合各種流量的凈水設(shè)施。

　　12、安裝簡(jiǎn)單、費(fèi)用低廉。

　　13、設(shè)備初投資大。

　　100T/H電子行業(yè)超純水設(shè)備工藝大致分成以下幾種

　　1、采用離子交換樹(shù)脂制備超純水的其基本工藝流程為：原水→原水箱→原水泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→保安過(guò)濾器→陽(yáng)床→陰床(復(fù)床)→混床→純水箱→純水泵→后置精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)

　　2、采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備其基本工藝流程為：原水→原水箱→原水泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→保安過(guò)濾器→高壓泵→反滲透設(shè)備→RO水箱→混床泵→混床→純水箱→純水泵→后置精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)

　　3、采用反滲透水處理設(shè)備與電去離子(EDI)設(shè)備，這是一種制取超純水的新工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟(jì)，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に?，其基本工藝流程為：原?rarr;原水箱→原水泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→高壓泵→反滲透設(shè)備→RO水箱→(EDI)泵→保安過(guò)濾器→紫外線→電去離子(EDI)→純水箱→純水泵→后置精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)

　　100T/H電子行業(yè)超純水設(shè)備應(yīng)用

　　EDI技術(shù)在國(guó)外廣泛的應(yīng)用有十幾年的時(shí)間，大多用于制藥行業(yè)、微電子行業(yè)、發(fā)電工業(yè)和實(shí)驗(yàn)室。在表面清洗、表面涂裝、電解工業(yè)和化工工業(yè)的應(yīng)用也日趨廣泛。

　　1、制藥行業(yè)、微電子行業(yè)、發(fā)電工業(yè)和實(shí)驗(yàn)室。

　　2、在表面清洗、表面涂裝、電解工業(yè)和化工工業(yè)的應(yīng)用也日趨廣泛，半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路。

　　4、超純材料和超純化學(xué)試劑。

　　5、實(shí)驗(yàn)室和中試車間。

　　6、汽車、家電表面拋光處理。

　　100T/H電子行業(yè)超純水設(shè)備安裝要求

　　1、無(wú)須專做安裝基礎(chǔ)，地基堅(jiān)實(shí)水平即可。

　　2、入水水壓如低于0.2 Mpa需加裝管道泵。

　　3、使用前需先沖洗管道，避免雜質(zhì)堵塞閥體，污染樹(shù)脂。

　　4、 不可用加碘鹽、加鈣鹽作再生劑，定期向鹽罐加鹽，確保鹽水飽和濃度(應(yīng)保證溶解時(shí)間不小于六小時(shí))。

　　100T/H電子行業(yè)超純水設(shè)備、工業(yè)反滲透超純水設(shè)備屬于水精處理設(shè)備，具有連續(xù)產(chǎn)水、水質(zhì)高、易控制、占地少、不需酸堿、利于環(huán)保等優(yōu)點(diǎn)，具有廣泛的應(yīng)用前景。隨著設(shè)備改進(jìn)與技術(shù)完善以及針對(duì)不同行業(yè)進(jìn)行優(yōu)化，初投資費(fèi)用會(huì)大大降低，可以相信在不久的將來(lái)會(huì)取代傳統(tǒng)的水處理工藝中的混合離子交換系統(tǒng)。