電子行業(yè)超純水設(shè)備簡(jiǎn)介
超純水(電子行業(yè)超純水設(shè)備)是美國科技界為了研制超純材料(半導(dǎo)體原件材料、納米精細(xì)陶瓷材料等)應(yīng)用蒸餾、去離子化、反滲透技術(shù)或其它適當(dāng)?shù)某R界精細(xì)技術(shù)生產(chǎn)出來的水，如今超純水已在生物、醫(yī)藥、汽車等領(lǐng)域廣泛應(yīng)用。這種水中除了水分子(H20)外，幾乎沒有什么雜質(zhì)，更沒有細(xì)菌、病毒、含氯二惡英等有機(jī)物，當(dāng)然也沒有人體所需的礦物質(zhì)微量元素。超純水，是一般工藝很難達(dá)到的程度，如水的電阻率大于18MΩ*cm，接近于18.3MΩ*cm則稱為超純水。目前，電子行業(yè)超純水設(shè)備制備超純水的方法通常采用反滲透，去離子或電去離子(EDI)等工藝。
電子行業(yè)超純水設(shè)備常規(guī)工藝
1、采用離子交換方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器(阻垢劑)→精密過濾器→陽樹脂過濾床→陰樹脂過濾床→陰陽樹脂混床→純水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點(diǎn)
2、采用反滲透加離子交換方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器(阻垢劑)→精密過濾器→反滲透機(jī)→陰陽樹脂混床→純水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點(diǎn)
3、采用反滲透加EDI方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器(阻垢劑)→精密過濾器→反滲透機(jī)→EDI系統(tǒng)→拋光混床→純水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點(diǎn)
電子行業(yè)超純水設(shè)備產(chǎn)水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)
中國國家電子行業(yè)超純水設(shè)備規(guī)格GB/T1146.1-1997
| 級(jí)別 | EW-Ⅰ | EW-Ⅱ | EW-Ⅲ | EW-Ⅳ |
| 電阻率 MΩ·cm（25℃） | 18 (95%時(shí)間) 不低于17 | 15 (95%時(shí)間) 不低于13 | 12.0 | 0.5 |
| 2 | 10 | 50 | 1000 | |
| >1um微粒數(shù)，值 個(gè)/ml | 0.1 | 5 | 10 | |
| 細(xì)菌數(shù)，值，個(gè)/mL | 0.01 | 0.1 | 10 | 100 |
| 銅，值 ug/L | 0.2 | 1 | 2 | 500 |
| 鋅，值 ug/L | 0.2 | 1 | 2 | 500 |
| 鎳，值 ug/L | 0.1 | 1 | 2 | 500 |
| 鈉，值 ug/L | 0.5 | 2 | 5 | 1000 |
| 鉀，值 ug/L | 0.5 | 2 | 5 | 500 |
| 氯，值 ug/L | 1 | 1 | 10 | 1000 |
| 硝酸根，值 ug/L | 1 | 1 | 10 | 500 |
| 磷酸根，值 ug/L | 1 | 1 | 10 | 500 |
| 硫酸根，值 ug/L | 1 | 1 | 10 | 500 |
| 總有機(jī)碳，值 ug/L | 20 | 100 | 200 | 1000 |
電子行業(yè)超純水設(shè)備應(yīng)用場(chǎng)合
電子行業(yè)超純水設(shè)備、電子工業(yè)超純水設(shè)備適用在半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路，光學(xué)玻璃鍍膜、光電子及光纖，超純材料和超純化學(xué)試劑，汽車、家電表面拋光處理，五金行業(yè)清洗用水，實(shí)驗(yàn)室和中試車間，其他高科技精微產(chǎn)品。
