混懸膠體磨，主要克服現(xiàn)有的片劑生產(chǎn)工藝復(fù)雜，投服不便，劑量不準(zhǔn)，驅(qū)蟲效果較差等弊端。該混懸液含有阿達(dá)唑粉，升溫至８０度，液體石蠟，黃原膠，水,穩(wěn)定劑。主要制備工藝為：將黃原膠加水配成膠液；置乳化器后加入石蠟油，升溫至８０，穩(wěn)定劑，阿達(dá)唑粉用膠體磨進(jìn)行剪切制成。本生產(chǎn)工藝簡單，質(zhì)量穩(wěn)定，投服操作簡便，劑量準(zhǔn)確，驅(qū)蟲效果明顯。

SID膠體磨與國內(nèi)膠體磨的性能比較（阿達(dá)唑混懸液膠體磨，驅(qū)蟲藥混懸膠體磨，混懸膠體磨，高剪切膠體磨）：

一、轉(zhuǎn)速和剪切速率：

SID膠體磨，可選擇德國機(jī)械密封，轉(zhuǎn)速可以達(dá)到15000轉(zhuǎn)    

F=51/0.7X1000=32857 S-1  

F=40/0.7/X1000=57142 S-1                      

國內(nèi)膠體磨，可選擇機(jī)械密封一般3000轉(zhuǎn)，大約在14293-215440 S-1

通過轉(zhuǎn)速比較可知，這是乳粉碎研磨的重要因素，相當(dāng)于前者是后者的2-3倍

二、膠體磨頭和間距：

SID膠體磨，可以選擇六種不同的模塊頭，實現(xiàn)多種功能，如三級乳化模塊，超高速模塊，CM膠體模塊，CMO膠體模塊，批次粉液液混合模塊，連續(xù)粉液混合模塊。

間距可調(diào)，可實現(xiàn)1-10微米小粒徑材料加工

國內(nèi)膠體磨，只有一種模塊頭，粒徑細(xì)度有限，100微米以下較困難，重復(fù)性差

三、機(jī)械密封：

SID膠體磨，雙機(jī)械密封，易于清洗，將泄漏降至較低，可24小時不停運轉(zhuǎn)

國內(nèi)膠體磨，單機(jī)械密封或軸封，泄漏故障率高，產(chǎn)品泄漏進(jìn)入馬達(dá)，造成馬達(dá)燒毀

四、清洗：

SID膠體磨，立式，皮帶驅(qū)動，易于維護(hù)，可有效保護(hù)馬達(dá)及齒輪箱，防止損壞,符合流體流動原理，具有CIP/SIP在線清洗，在線殺菌功能，無需拆卸，機(jī)器設(shè)計*，立式結(jié)構(gòu)符合流體原理，清洗更簡便

國內(nèi)膠體磨，臥式或立式（馬達(dá)一體式），軸承部分受力較大，易于損壞，維護(hù)保養(yǎng)復(fù)雜，

通常情況，需要拆卸機(jī)器進(jìn)行清洗

CM2000系列的特點：

①定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。

②齒列的深度：從開始的2.7mm 到末端的0.7mm，范圍比較大，范圍越大，處理的物料顆粒大小越廣。

③溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。

高剪切膠體磨主要用途：

高剪切膠體磨適用于制藥、食品、化工及其它行業(yè)的濕物料超微粉碎，能起到各種半濕體及乳狀液物質(zhì)德粉碎、乳化、均質(zhì)和混合，主要技術(shù)指標(biāo)已達(dá)到國外同類產(chǎn)品的*水平。 

CM2000系列混懸膠體磨設(shè)備選型表：

注：流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到允許量的10%

膠體磨的細(xì)化作用一般來說要弱于均質(zhì)機(jī)，但它對物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時也常常使用膠體磨進(jìn)行細(xì)化。