PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強,很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜。 該系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于沉積高質(zhì)量、SiO2薄膜、Si3N4薄膜、SiC薄膜、硬質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜和炭納米管(CNT)、石墨烯材料等,是科研機構(gòu)和大學(xué)實驗室的理想產(chǎn)品。
產(chǎn)品介紹:
該設(shè)備是一款定制的PECVD系統(tǒng),增加了傾斜、旋轉(zhuǎn)功能。該系統(tǒng)包含等離子射頻電源,高溫管式爐,4通道質(zhì)量流量供氣系統(tǒng)和分子泵機組??捎糜谏L納米或石墨烯材料。
技術(shù)參數(shù):
產(chǎn)品名稱 | 定制旋轉(zhuǎn)PECVD系統(tǒng) |
滑軌管式爐部分 | |
產(chǎn)品型號 | KJ-T1200-S80-DZPECVD-R |
爐管尺寸 | 80*長度1600mm 可選其他直徑Φ50,60,80,100,120,150mm |
爐管材質(zhì) | 石英管 |
加熱區(qū) | 單溫區(qū),溫區(qū)長度400mm |
工作溫度 | 1100℃ |
溫度 | 1200℃ |
溫控方式 | K型熱電偶 |
控制方式 | 觸屏控制 |
控溫精度 | ±1℃ |
溫控保護(hù) | 具有超溫和斷偶保護(hù)功能 |
升溫速率 | 0-20ºC/min可調(diào) ,建議10ºC/min |
加熱元件 | 含鉬電阻絲 |
工作電壓 | AC 220V 單相 50HZ (電路電壓用戶可選擇定制) |
加熱功率 | 3KW |
爐膛材料 | 氧化鋁多晶纖維 |
法蘭接頭 | 標(biāo)配配有不銹鋼真空法蘭,已安裝機械壓力表和不銹鋼截止閥 |
密封系統(tǒng) | 該爐爐管與法蘭之間采用硅膠O型圈擠壓密封、撤卸方便、可重復(fù)撤卸,磁流體密封,氣密性好可實現(xiàn)爐管旋轉(zhuǎn)過程中的高真空。 |
真空系統(tǒng)部分 | |
主要參數(shù) | 采用高真空分子泵組,爐管內(nèi)真空度可達(dá)10-3pa |
氣路系統(tǒng)部分 | |
名稱 | 四路質(zhì)量流量計(量程可選) |
等離子電源部分 | |
功率范圍 | 0-500W(連續(xù)可調(diào)) |
售后服務(wù) | 質(zhì)保一年,終身保修(耗材類:高溫密封圈、爐管、加熱元件等及人為損壞不屬于質(zhì)保范圍) |
更多規(guī)格可根據(jù)客戶需求定制 |
1、我公司對所供設(shè)備提供質(zhì)保一年保修服務(wù)(易損件除外),在保修期內(nèi)因設(shè)備質(zhì)量原因造成的設(shè)備損壞或故障,均予以免費維修。保修期滿后,仍提供終身的、優(yōu)質(zhì)的維修服務(wù)。
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