KJ-T1050-CVD-LZ型石墨稀、碳納米管材料CVD設(shè)備由管式爐+真空系統(tǒng)+供氣系統(tǒng)+水冷系統(tǒng)組成 ,溫度可以達(dá)到1050度,可以是單溫區(qū)、雙溫區(qū)、三溫區(qū)等,極限真空可以達(dá)到10-3Pa,供氣系統(tǒng)是流量調(diào)節(jié)可以是質(zhì)子流量計或浮子流量計,混氣路數(shù)可以是2路、3路、4路、5路相混合。
管式爐采用摻鉬合金加熱絲為加熱元件,采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和宇電控溫儀表,能進(jìn)行30段程序控溫,移相觸發(fā)、可控硅控制,爐膛采用日本進(jìn)口氧化鋁多晶纖維材料,具有溫場均衡、表面溫度低、節(jié)能等優(yōu)點。
軟件控制系統(tǒng):該爐配有通訊接口和軟件,可以直接通過電腦控制爐子的各個參數(shù),并能從電腦上觀察到爐子上PV和SV溫度值和儀表的運行情況,爐子的實際升溫曲線電腦會實時繪出,并能把每個時刻的溫度數(shù)據(jù)保存起來,隨時可以調(diào)出。
應(yīng)用范圍:
該設(shè)備主要用于石墨稀、納米材料工藝涂層、多晶硅、碳化硅、擴散、氧化、退火等工藝。
參數(shù)詳情:
產(chǎn)品名稱 | 石墨稀、碳納米管材料CVD設(shè)備 |
產(chǎn)品型號 | KJ-T1050-CVD-LZ |
爐型結(jié)構(gòu) | 臥式、單管或多管系統(tǒng)自動控制 |
適應(yīng)晶片尺寸 | 50--200mm |
取片方式 | 自動懸臂石英推拉舟,配合手動取、放片 |
溫度 | 1050℃ |
極限真空度 | 優(yōu)于1Pa |
溫度穩(wěn)定性 | 400℃~850℃≦+-0.5℃/24h |
抽速 | 抽限真空時間15min左右 |
供電電源 | 380V 50Hz 三相五線 |
選配 | 冷卻水:2~4KGF/c㎡,8L/min |
更多規(guī)格可根據(jù)需求定制 |
1、我公司對所供設(shè)備提供質(zhì)保一年保修服務(wù)(易損件除外),在保修期內(nèi)因設(shè)備質(zhì)量原因造成的設(shè)備損壞或故障,均予以免費維修。保修期滿后,仍提供終身的、優(yōu)質(zhì)的維修服務(wù)。
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3、我公司設(shè)提供免費的設(shè)備操作培訓(xùn)和簡單故障排除維修培訓(xùn)。
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