HCZY-50二氧化氯發(fā)生器
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二氧化氯發(fā)生器詳解：
產(chǎn)品屬性：化學法、正壓式、復合型/高純型
產(chǎn)品亮點：正壓投加、適用兩種生產(chǎn)工藝
使用原料：該設備可采用兩種工藝產(chǎn)生二氧化氯。
- 采用氯酸鈉（HBG/T3250-2001工業(yè)一級品，含量≥78%）和鹽酸（GHB320-2006工業(yè)一級品，濃度≥31%）反應，生成復合二氧化氯消毒液，ClO2得率≥70%。
2、采用亞氯酸鈉（HBG/T3250-2001工業(yè)一級品，含量≥78%）；與鹽酸（GHB320-2006工業(yè)一級品，濃度≥31%）反應，生成高純二氧化氯消毒液，產(chǎn)生的ClO2純度≥95%。
產(chǎn)品特點：
反應系統(tǒng)采用耐高壓、耐腐、高壽命的特種復合材質(zhì)鈦合金反應器。
確保設備在管網(wǎng)壓力壓力≤0.7Mpa或常壓狀態(tài)下直接帶壓投加二氧化氯消毒液。
反應器在結(jié)構設計中采取逆流接觸方式，以保持zui大的反應推動力及充足的反應時間，確
原料的高轉(zhuǎn)化率和二氧化氯的高得率。
原料輸送采用進口的電磁隔膜計量泵，運行穩(wěn)定、計量準確。
具有缺料自動停機報警功能。
根據(jù)要求可選配不同自動化程度的控制系統(tǒng)（PLC\單片機\繼電器），可接收代表流量、余氯的4—20mA標準信號，并根據(jù)輸入信號改變原料投加速度，實現(xiàn)開環(huán)比例、閉環(huán)自動控制投加，可選配RS485通訊接口、硬接線聯(lián)接通訊口，采用PROFIUS通訊協(xié)議與上位機進行
訊，實現(xiàn)遠程監(jiān)控。
性能參數(shù)表
型號 | 有效氯產(chǎn)量 | 配電功率 | 動力水 | |
（g/HB） | (Kw) | 管徑ф（mm） | 壓力（MPAa） | |
HCZY-50 | 50 | 0.8 | 20 | ≥0.2 |
HCZY-100 | 100 | 0.8 | 20 | ≥0.2 |
HCZY-200 | 200 | 0.8 | 20 | ≥0.2 |
HCZY-300 | 300 | 0.8 | 20 | ≥0.2 |
HCZY-500 | 500 | 0.8 | 25 | ≥0.2 |
HCZY-800 | 800 | 0.8 | 25 | ≥0.25 |
HCZY-1000 | 1000 | 1.5 | 32 | ≥0.25 |
HCZY-2000 | 2000 | 2.0 | 40 | ≥0.25 |
HCZY-3000 | 3000 | 2.0 | 40 | ≥0.3 |
HCZY-4000 | 4000 | 3.0 | 50 | ≥0.3 |
HCZY-5000 | 5000 | 3.0 | 50 | ≥0.3 |
HCZY-10000 | 10000 | 4.0 | 50 | ≥0.3 |
二氧化氯發(fā)生器操作說明
一． 使用前的準備
1. 原料的配制與添加
將氯酸鈉與水按1：2（重量比）比例混合,例如1公斤氯酸鈉加2公斤水,攪拌至氯酸鈉*溶解即可（氯酸鈉為工業(yè)氯酸鈉純度為99%-99.5%）。
2. 鹽酸的添加
關閉氯酸鈉箱進水閥、二氧化氯出藥閥、鹽酸箱放空閥。打開鹽酸箱吸真空閥,打開原水進水閥, 同時關閉排放口閥三分之二，打開原料進口閥，然后在鹽酸箱吸酸口加一段軟管插入鹽酸藥桶即可。（此過程采用負壓原理將鹽酸吸入到鹽酸箱中）。同時觀察鹽酸箱液位有否進料，此過程一般需要5-10分種。鹽酸加滿后關閉鹽酸箱吸真空閥，同時關閉原料進口閥。此工作過程就結(jié)束。
注意：動力水壓必須達到0.25MPa以上,否則無法產(chǎn)生負壓,且水質(zhì)必須干凈,否則容易堵塞水射器。
3. 將低壓控制器壓力控制在0.2MPa左右（具體方法,將低壓控制器頂部左側(cè)螺絲,逆時針旋轉(zhuǎn),使正面左側(cè)壓力標志到底部,然后調(diào)節(jié)頂部右側(cè)螺絲,使正面右側(cè)壓力表標志在0.2MPa即可）。
二、詳細操作說明
1．把本體設備管道正確連接安裝好。
2.將氯酸鈉水溶液與鹽酸溶液配置于溶液箱內(nèi)，打開原水進水閥，啟動微電腦控制儀,把溫度設置在40-55度之間（溫度設置本公司在出廠前已調(diào)整好。具體詳見電器說明書，）
3.打開原水進水閥,打開二氧化氯出藥閥, 關閉鹽酸箱吸真空閥。 同時啟動氯酸鈉和鹽酸計量泵，根據(jù)出藥量調(diào)動計量泵工作頻率。
4.把微電腦控制儀設置在自動運行即可（詳見電器說明書）。
5.關機時應提前一小時關閉計量泵,停止加料,使水射器將設備中的氣體盡量抽完,以防止滯后所產(chǎn)生的氣體外溢,停料1小時后關閉原水進水閥。 三、設備清洗
設備主機下部有排污口,可進行清洗排污,清洗時在水射器正常工作狀態(tài)下,打開反應室放空閥,關閉反應室空氣進口閥,打開反應室反沖洗閥,約半小時即可,然后關閉反應室放空閥,關閉反應室反沖洗閥,打開反應室空氣進口閥,關閉原水進水閥。
注意：正常情況下,應該每月清洗一次。
三、注意事項
1.氯酸鈉和鹽酸應分開單獨存放。
2.氯酸鈉應放在干燥、通風、避光處,嚴禁與易燃物品混放,嚴禁擠壓、碰撞,氯酸鈉應符合G1618-1995工業(yè)用氯酸鈉的要求。
3.鹽酸濃度為30%左右,應符合G320-93工業(yè)合成鹽酸的要求,嚴禁使用廢酸。
4.應注意經(jīng)常清洗原料罐下部的沉淀物,防止堵塞計量泵。
四、附加說明
1．本設備出廠前均已檢驗合格
2．本體設備可分為：手動型、半自動型、全自動型敬請用戶指明或其它要求說明，有特殊規(guī)格要求，可共同研討。
供應：HCZY-50二氧化氯發(fā)生器HCZY-50二氧化氯發(fā)生器
