蘇州半導體超純水設(shè)備 蘇州偉志水處理設(shè)備有限公司 
半導體清洗超純水設(shè)備水質(zhì)標準：
    半導體芯片清洗超純水設(shè)備出水水質(zhì)*符合美國ASTM純水水質(zhì)標準、我國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準）、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標準、美國半導體工業(yè)用純水指標、日本集成電路水質(zhì)標準、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標準。
    新興的光電材料生產(chǎn)、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡易性、自動化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴格的要求。
半導體清洗超純水設(shè)備制備工藝：
1、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象 （≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)
2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥16MΩ.CM）(*工藝)
3、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調(diào)節(jié)）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥17MΩ.CM）(*工藝)
 蘇州偉志水處理有限責任公司售后服務：
1、本水處理設(shè)備保修期為一年（即投入運行后一年內(nèi)的時間為工程保修期），保修期內(nèi)為用戶提供免費保修服務，保修期后根據(jù)用戶需要，我們可提供*的有償保修業(yè)務以及技術(shù)指導工作。
2、水處理設(shè)備在保修期內(nèi)，不論平常還是節(jié)假日，在接到用戶故障通知后，我司處理專員會立即派遣技術(shù)人員72小時內(nèi)抵達現(xiàn)場對故障進行處理。
3、公司每月派技術(shù)人員至少一次上門對系統(tǒng)提供指導和維護保養(yǎng)及檢修，確保設(shè)備運行情況達到*狀態(tài)。 
4、保修期內(nèi)設(shè)備系統(tǒng)出現(xiàn)故障，所需任何配件均屬免費更換范圍（人為損壞及人為因素除外）