光氧催化設備的處理原理
光氧催化廢氣處理的原理介紹
目前，越來越多的工業(yè)生產(chǎn)廠家利用光氧催化設備對廢氣進行充分處理，以滿足環(huán)保要求，因此許多開發(fā)商正在研究這種方法凈化廢氣的凈化原理，以增加銷量。
1、光氧催化利用氧分子產(chǎn)生自由氧，即活性氧，由于自由氧攜帶的正負電子不平衡，活性氧需要與氧分子結合，從而產(chǎn)生臭氧。臭氧對有機物有很強的氧化作用。工業(yè)廢氣輸入凈化設備后，凈化設備利用高能紫外光束和臭氧對工業(yè)廢氣進行協(xié)同分解氧化反應，使工業(yè)廢氣降解轉(zhuǎn)化為低分子化合物、水和二氧化碳，然后通過排氣管排出室外。
2、光氧催化利用細菌的分子鍵破壞細菌的核酸，然后通過臭氧進行氧化反應，達到凈化和殺滅細菌的目的。采用脈沖電暈吸附技術相結合的原理，消除有害氣體，將有機物轉(zhuǎn)化為無機物。
3、光氧催化利用高能高臭氧紫外光束照射廢氣，裂解工業(yè)廢氣的分子鏈結構，使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈在高能紫外光束照射下降解轉(zhuǎn)化為低分子化合物。
4、當能量高于半導體禁帶寬度的光子照射半導體時，它們從價帶躍遷到導帶，半導體的價帶電子經(jīng)歷帶間躍遷，產(chǎn)生帶負電荷的光生電子和帶正電荷的光生空穴。光生電子的還原能力和光誘導空穴的強氧化能力導致半導體光催化劑引發(fā)的一系列光催化反應。
5、半導體光氧催化羥基自由基反應的機理，即當*等半導體顆粒與水接觸時，在半導體表面產(chǎn)生高密度的羥基。
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