氧化鋅高剪切膠體磨,氧化鋅納米級高剪切均質(zhì)分散機,氧化鋅高高轉(zhuǎn)速膠體磨,氧化鋅在線式分散機,氧化鋅研磨分散均質(zhì)乳化機,氧化鋅高轉(zhuǎn)速剪切分散機,氧化鋅高轉(zhuǎn)速納米分散機,氧化鋅,納米氧化鋅高剪切研磨分散機

氧化鋅是鋅的一種氧化物。難溶于水，可溶于酸和強堿。氧化鋅是一種常用的化學(xué)添加劑，廣泛地應(yīng)用于塑料、硅酸鹽制品、合成橡膠、潤滑油、油漆涂料、藥膏、粘合劑、食品、電池、阻燃劑等產(chǎn)品的制作中。氧化鋅的能帶隙和激子束縛能較大，透明度高，有優(yōu)異的常溫發(fā)光性能，在半導(dǎo)體領(lǐng)域的液晶顯示器、薄膜晶體管、發(fā)光二極管等產(chǎn)品中均有應(yīng)用。此外，微顆粒的氧化鋅作為一種納米材料也開始在相關(guān)領(lǐng)域發(fā)揮作用

影響納米材料分散的因素有哪些
1.分散介質(zhì)：根據(jù)粘度不同，分散介質(zhì)分為高粘度、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質(zhì)中，如水和有機溶劑，納米材料易于分散。中粘度介質(zhì)如液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠等，高粘度介質(zhì)如熔融態(tài)的塑料。

2、分散劑：

（1）分散劑的選擇，與分散介質(zhì)的結(jié)構(gòu)、極性、溶度參數(shù)等密切相關(guān)。

（2）分散劑的用量，與納米材料比表面積和共價鍵修飾的功能基團有關(guān)。

（3）水性介質(zhì)中，*使用TNWDIS。強極性有機溶劑中，如醇、DMF、NMP，　*使用TNADIS

3.分散設(shè)備：對于像氧化鋅這樣的納米級高分子材料要想分散出好的產(chǎn)品關(guān)鍵，現(xiàn)在市面上對于納米的分散設(shè)備一般有：高壓均質(zhì)機、砂磨機、研磨分散機。在這三種設(shè)備中高壓均質(zhì)機和砂磨機做出的產(chǎn)品的粒度會比研磨分散做出的粒度小但是高壓均質(zhì)機和砂磨機的價格都比研磨分散的價格高，而且產(chǎn)量小。

所以在設(shè)備的選用上優(yōu)先考慮性價比高的研磨分散機。

研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

氧化鋅高剪切膠體磨設(shè)備參數(shù)

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

2 處理量取決于物料的粘度,稠度和終產(chǎn)品的要求。

3 參數(shù)內(nèi)的各種型號的流量主要取決于所配置的乳化頭的精密程度而定。

4 本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動,定制而不同,正確的參數(shù)以提供的實物為準(zhǔn)。