工業(yè)惡臭處理光催化氧化設備、

性能特點：

 1、高效除惡臭：能高效去除揮發(fā)性有機物（VOC）及各種惡臭味，脫臭效率可達99%以上。

 2、無需添加任何物質(zhì)：只需要設置相應的排風管道和排風動力。

 3、適應性強：可適應高濃度，大氣量，可每天24小時連續(xù)工作，運行穩(wěn)定可靠。

4、運行成本低：本設備無任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護。

 5、無需預處理：工作環(huán)境溫度在攝氏-30℃～95℃之間，濕度在30%～98%、PH值在3-13之間均可正常工作。

 6、設備占地面積小，自重輕：處理10000m3/h風量設備占地面積<1平方米。

7、優(yōu)質(zhì)進口材料制造：防火、防爆、防腐蝕性能高，設備性能安全穩(wěn)定。

8、環(huán)保高科技產(chǎn)品：采用上*技術，可*分解惡臭氣體中有毒有害物質(zhì)，并能達到*的脫臭效果，經(jīng)分解后的惡臭氣體，可*達到無害化排放，絕不產(chǎn)生二次污染。

工業(yè)惡臭處理光催化氧化設備

特點：

光解廢氣處理設備能將廢氣中的有害物質(zhì)氧化分解為水、二氧化碳等的分子化合物，適合高濃度、煙霧大、高風量的廢氣處理。

光解催化設備能將廢氣*凈化為無污染的低分子物質(zhì)，可以避免二次污染，廢氣凈化*高效。

光催化氧化利用人工紫外線燈管產(chǎn)生的真空波紫外光作為能源來活化光催化劑，驅(qū)動氧化—還原反應，而且光催化劑在反應過程中并不消耗，利用空氣中的氧作為氧化劑，有效地降解有毒有害廢臭氣體成為光催化節(jié)約能源的zui大特點。

半導體光催化具有氧化性強的特點，對臭氧難以氧化的某些有機物如四氯化炭、六氯苯、都能有效地加以分解，所以對難以降解的有機物具有特別意義，光催化的有效氧化劑是羥基自由基（OH-）和超氧離子自由基（O2-、0-），其氧化性高于常見的臭氧、雙氧水、*、次氯酸等。

光催化氧化對從烴到羧酸的種類眾多有機物都有效，即使對原子有機物如鹵代烴、染料、含氮有機物、有機磷殺蟲劑也有很好的去除效果，只要經(jīng)過一定時間的反應可達到*凈化。

在理論上，光催化劑的壽命是無限長的，無需更換.可20小時不間斷工作。

適用廢氣種類：

除臭設備適用于：丙酮、丁酮、乙酸乙酯、VOC 、甲醛、乙醛、乙酸乙酯、苯系物、、 苯、甲苯、二甲苯、苯乙烯、烷烴、烯烴、炔烴、芳香烴、酚、硫化氫、硫醇、硫醚、氨、胺、吲哚、硝基等臭氣和廢氣。