水相剪切剝離制備石墨烯設(shè)備，蠕蟲石墨制備石墨烯研磨設(shè)備，膨脹石墨制備石墨烯設(shè)備，鱗片石墨制備石墨烯設(shè)備，少層石墨烯制備設(shè)備，德國(guó)進(jìn)口高級(jí)安全研磨設(shè)備，高轉(zhuǎn)速研磨分散設(shè)備

IKN研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)*，能夠延長(zhǎng)易損件的使用時(shí)間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎?？梢砸粰C(jī)多用，也可以單獨(dú)使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。

水相剪切剝離制備石墨烯的方法，包括如下步驟：1）將原料石墨進(jìn)行插層處理，制備石墨插層化合物；2）加入一定量的活性物質(zhì)，在一定條件下對(duì)石墨層間化合物進(jìn)行剪切處理；3）將剪切處理后的混合液經(jīng)過離心或過濾制備可再次分散的高濃度石墨烯漿料或?yàn)V餅。該方法采用廉價(jià)試劑、于室溫下進(jìn)行剪切操作，能耗低、無污染、效率高，制備的石墨烯納米片層可廣泛應(yīng)用于能量?jī)?chǔ)存與轉(zhuǎn)化、催化、以及各種復(fù)合材料、涂料、導(dǎo)電墨水等領(lǐng)域。

石墨烯片層之間是通過和范德華力相互作用彼此堆砌在一起的。同時(shí)，石墨烯表面的高度惰性也使得它們只能分散在有限的溶劑中(如甲基吡咯烷酮匪?、隊(duì)^ 二甲基甲酰胺01？、二氯苯等)實(shí)現(xiàn)低石墨烯含量的分散(如0.7呢/111[，重量分?jǐn)?shù)約7父10 4界!:。/。)，即使經(jīng)過濃縮后再次分散，石墨烯在也僅能在匪？中實(shí)現(xiàn)26-28 石墨烯的穩(wěn)定分散(重量分?jǐn)?shù)約2.6-2.8 ^%)
2011，27，9077 - 9082)0石墨烯片層之間較強(qiáng)的層間相互作用使得在溶劑中的超聲剝離往往只能實(shí)現(xiàn)較低的剝離效率。

將石墨插層化合物與活性物質(zhì)加入到水中，在剪切作用下處理10分鐘-20小時(shí)，得到剝離的石墨烯懸浮液或分散液；所述活性物質(zhì)的用量為原料石墨質(zhì)量的0.01-10倍，水的加入量為原料石墨質(zhì)量的5-1000倍；

水相剪切剝離制備石墨烯設(shè)備，蠕蟲石墨制備石墨烯研磨設(shè)備，膨脹石墨制備石墨烯設(shè)備，鱗片石墨制備石墨烯設(shè)備，少層石墨烯制備設(shè)備，德國(guó)進(jìn)口高級(jí)安全研磨設(shè)備，高轉(zhuǎn)速研磨分散設(shè)備

上海依肯的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。

CMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

第yi級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?/span> 在對(duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機(jī)座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì)，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

研磨分散機(jī)的特點(diǎn)：

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4、 在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

從設(shè)備角度來分析，影響分散效果因素有以下幾點(diǎn)：

1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間（可以看作同等電機(jī)，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設(shè)備的期限就不能再好了。）

線速度的計(jì)算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)zui重要因素，研磨分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的

CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

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