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IKN研磨機效率高、輕便、整機模塊結構，操作方便，可長時間運轉，輕松滿足多種高要求的分散乳化實驗?？稍趯嶒炇夷M在線工況進行循環(huán)或在線連續(xù)處理，具有高效均質(zhì)無分散死角等

甘草具有抗炎、抗bian態(tài)反應的作用，這主要來自于甘草酸銥--甘草酸及甘草次酸鹽，還能抑制毛細血管通透性。腎上腺皮質(zhì)激素樣作用，甘草具有鹽皮質(zhì)甾醇樣作用和糖皮質(zhì)類甾醇樣作用。其激素樣作用的原理，有人認為是甘草次酸的化學結構與腎上腺皮質(zhì)激素有相似之點，是一種直接作用，但也有人認為是間接作用，即甘草次酸抑制了腎上腺皮質(zhì)甾醇類在體內(nèi)的破壞，因而血中含量相應增加。同時，甘草黃銅還有抑制*酶活性、清除氧目由基，其抗氧化能力與*比較接近

客戶原始樣品120目，希望通過高剪切研磨機能夠達到10微米以下，依肯給出了兩種方案，一種采用CMSD2000/4濕法高剪切研磨機12000rpm轉速下一遍兩遍測試效果；第二種采用依肯推出的ERX4000/4超高速濕法分散機，線速度66m/s,21000rpm轉速下一遍兩遍測試效果。目測效果是很明顯的，客戶也是比較滿意.

上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。IKN研磨分散機可以高速研磨，分散，乳化，均質(zhì)等功能，設備轉速可達14000rpm，是目前設備轉速的4-5倍。

根據(jù)一些行業(yè)特殊要求，依肯公司在ERS2000系列的基礎上又開發(fā)出ERX2000超高速剪切乳化機機。其剪切速率可以超過200.00 rpm，轉子的速度可以達到66m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強，乳液的粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度*,無需其他輔助分散設備,可以達到普通的高壓均質(zhì)機的400BAR壓力下的顆粒大小.

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濕法研磨機的特點：

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

2、 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉子之間的距離

4、 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改x方向。

5、 高質(zhì)量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

從設備角度來分析，影響研磨分散機效果因素有以下幾點：

1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結構（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設備的期限就不能再好了。）

線速度的計算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 
IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉子直徑）X 轉速 RPM  /   60

 所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個zui重要因素，超高速分散均質(zhì)分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

CMD2000系列研磨分散機設備選型表
 

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

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