真空深冷機
用于原理：
在使用油擴散泵、分子泵抽真空的過程中，空間中80%以上的殘余氣體是水蒸氣、油蒸氣以及一些高沸點的蒸汽，這類殘余氣體在高真空狀態(tài)下，抽取難度大、速度慢，而且殘余氣體的存在不僅會影響真空度也會污染生產(chǎn)實驗工件，深冷機可有效解決這類問題, 在真空度 10-2 至 10-8 pa 之間快速吸附真空腔內(nèi)殘余水汽和油氣，提高真空度、提高產(chǎn)品品質，加快抽速提高生產(chǎn)效率。
在真空室中或油擴散泵的泵口，放置一個能迅速達到-120℃以下的制冷裝置（盤管或冷阱），通過其表面的深低溫冷凝能力，迅速將真空腔體內(nèi)的殘余氣體附著，從而大大縮短抽真空的時間（可縮短50-80%的抽氣時間）、獲得潔凈的真空環(huán)境（真空度可提高半個數(shù)量級，達到10-8 Torr、10-5 Pa)。
真空深冷機
1、水汽捕集器
它的制冷盤管經(jīng)常被安裝在高閥與真空腔之間或真空腔內(nèi)、卷繞鍍膜上下室內(nèi)等部位。適用于塑料低溫鍍膜、卷繞鍍膜等被鍍膜材料放氣量較大的場合。盤管需要有加熱除霜裝置，使盤管每次開門之前恢復到常溫，避免低溫盤管從大氣中吸收大量的水汽而結霜，影響下次抽真空。
2、低溫冷阱
放在油擴散泵的泵口，高閥以下，它主要功能是防止油擴散泵返油，同時也可以加快抽速、提高真空度。由于系統(tǒng)處于真空狀態(tài)，無需除霜裝置。
永佳不同型號規(guī)格
型 號 | ZK-1100D12 | ZK-1100D16 | ZK-1100D16L | ZK-1100D18 | ZK-1100D18L | ||||
功率（KW） | 10 | 14 | 14 | 18 | 18 | ||||
zui大制冷量（W）（-100℃） | 2000 | 3000 | 3000 | 4000 | 4000 | ||||
電 源 | 380V，50HZ | ||||||||
抽速L/S | 149200 | 238200 | 238200 | 372500 | 282000 | ||||
預冷時間（min） | 30 | ||||||||
除霜時間（min） | ≤3 | ≤3 | ≤3 | ≤4 | ≤4 | ||||
再降溫時間（min） | ≤3 | ≤3 | ≤3 | ≤3 | ≤3 | ||||
低溫管表面積（㎡） | 1 | 1.8 | 1.5 | 2.5 | 2 | ||||
低溫管規(guī)格 | 20m | 38m | 雙路15m | 50m | 雙路20m | ||||
冷卻方式 | 水冷，水溫≤30℃ | ||||||||
冷水流量（t/h） | 1.6 | 2.5 | 2.5 | 3 | 3 | ||||
冷水接口尺寸（mm） | 16 | 16 | 16 | 19 | 19 | ||||
需冷水機功率（HP） | 5 | 8 | 8 | 10 | 10 | ||||
適用油泵直徑（mm） | ≤800 | ≤900 | ≤600 | 1000或1200 | ≤800 | ||||
適用真空腔室直徑（mm） | ≤1300 | ≤1500 | ≤1000 | ≤1800 | ≤1500 | ||||
永佳適用領域：
1半導體 2太陽能薄膜制程 3光纖市場 4平板顯示 5裝飾鍍膜、卷繞鍍膜、光學鍍膜
