浸漬漿液超高速膠體磨,浸漬漿液研磨分散機,噴霧前催化劑高剪切膠體磨,浸漬漿液剪切研磨分散機,浸漬漿液膠體磨,催化劑膠體磨,噴霧干燥前催化劑膠體磨,催化劑高速膠體磨,噴霧干燥前催化劑膠體磨是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。詳情請接洽上海依肯,段,手機,(同) ,公司有樣機供客戶實驗
催化劑的一般工藝前工序來的浸漬漿液中含有金屬氧化物、脫鹽水和膠液,在進入下一段工序之前,需使浸漬漿液中的金屬氧化物和膠液形成的混合物顆粒粒徑達到要求,分布均勻,而上工序攪拌時會產(chǎn)生結(jié)塊現(xiàn)象,膠體磨的主要目的是將浸漬漿液中混合物結(jié)塊經(jīng)過研磨,使得浸漬漿液中比較大的顆粒被研磨打碎成顆粒分布均勻的小顆粒,然后通過后續(xù)噴霧干燥工段,以得到粒度大小合格、分布均勻的產(chǎn)品。膠體磨的安裝位置在浸漬漿液儲槽入口的管線上。
催化劑膠體磨的粉碎效果
粉碎研磨分散的本質(zhì)是通過能量的輸入使不相溶的兩相或多相達到互相包裹,近似穩(wěn)定均一狀態(tài)的做功過程。即形成乳液或懸浮液的條件是,在某一能量水平上, 各種微滴顆粒集聚的速度與分散的速度達到動態(tài)的平衡。
IKN膠體磨由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果
為了達到巨大的能量輸入,IKN采用提高定轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速的方法。在電機固定三千轉(zhuǎn)的前提下,我們采用立式的結(jié)構(gòu)通過皮帶加速達到15000轉(zhuǎn)。這很容易做到,但重要的是其它的部件能否能在高轉(zhuǎn)速下保持穩(wěn)定——軸承的強度夠不夠?機械密封會不會因為產(chǎn)生大量的熱而損毀泄露?主軸會不會偏振的很厲害,定轉(zhuǎn)子是否會發(fā)生摩擦?這些是IKN的關(guān)注點,也應(yīng)該是廣大客戶在選型時應(yīng)該重視的幾個方面。
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IKN研磨機與國內(nèi)研磨機比較:
轉(zhuǎn)速和剪切力:
國內(nèi)研磨機,3000/4700 RPM直聯(lián)電機的轉(zhuǎn)速決定轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速
線速度:V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S
作用力:F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1
IKN研磨機,9000/14000RPM通過皮帶加速
線速度:V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S
作用力:F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1
這是研磨粉碎的重要因素,相當于后者是前者的4-5倍
設(shè)備設(shè)計構(gòu)造:
國內(nèi)研磨機,臥室直聯(lián)結(jié)構(gòu),運行時間長,容易造成軸的偏心,運轉(zhuǎn)不正常,需要專業(yè)的人員拆開內(nèi)部結(jié)構(gòu)更換。而且需要更換損害的乳化頭及軸
IKN研磨機,立式分體結(jié)構(gòu),運行時間長,不易造成軸的偏心,容易更換,而且只要更換相應(yīng)的皮帶,一般的人員可以操作。
密封:
國內(nèi)研磨機,填料密封或骨架密封,單機械密封或軸封,泄漏故障率高,產(chǎn)品泄漏進入馬達,造成馬達燒毀
IKN研磨機,雙機械密封,易于清洗,將泄漏降至zui低,可24小時不停運轉(zhuǎn),特殊德國PDFE軸封,可以運行10000小時,可選擇德國高品質(zhì)機械密封,在一般的情況下,我們的機械密封可以zui大承受16bar 壓力,根據(jù)機械密封的壓力一般要高于密封腔體的壓力2-3bar ,這就決定我們的入口zui大壓力可以達到12-13 bar .
產(chǎn)品效果:
國內(nèi)研磨機,粒徑細度有限,10微米以下較困難,重復(fù)性差,產(chǎn)品粒徑分布不均勻
IKN高剪切研磨機 可實現(xiàn)0.1-1微米的顆粒加工,粒徑分布均勻,納米級分散乳化粉碎
超高速膠體磨的細化作用一般來說要強于均質(zhì)機,但它對物料的適應(yīng)能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時也常常使用膠體磨進行細化。
CMS2000的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
三級錯齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子,配合精密的定子腔。此款高速膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達到3倍以上,zui小的轉(zhuǎn)速可以達到14000RPM。所以可以達到更好的分散濕磨效果。
設(shè)備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式:普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件: PTC 熱保護、降噪型
超高速膠體磨材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti
超高速膠體磨選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
超高速膠體磨表面處理:拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
膠體磨選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器詳情請接洽上海依肯,段,手機,(同) ,公司有樣機供客戶實驗
高速膠體磨 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
CMS 2000/4 | 700 | 14000 | 40 | 4 | DN25/DN15 |
CMS 2000/5 | 5,000 | 10,500 | 40 | 11 | DN40/DN32 |
CMS 2000/10 | 10,000 | 7,300 | 40 | 22 | DN50/DN50 |
CMS 2000/20 | 30,000 | 4,900 | 40 | 45 | DN80/DN65 |
CMS 2000/30 | 60,000 | 2,850 | 40 | 75 | DN150/DN125 |
CMS 2000/50 | 100000 | 2,000 | 40 | 160 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。 |
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