氧化石墨烯導(dǎo)電薄膜高速研磨分散機(jī),氧化石墨烯導(dǎo)電薄膜高剪切分散設(shè)備廠家,氧化石墨烯導(dǎo)電薄膜高速剪切研磨分散設(shè)備,新型材料改性石墨烯硅油薄膜高速剪切分散機(jī),石墨烯油性薄膜研磨分散設(shè)備廠家?,石墨烯硅油薄膜分散設(shè)備,石墨烯硅油漿料分散設(shè)備,石墨烯硅油分散設(shè)備,石墨烯油性漿料分散設(shè)備,石墨烯硅油分散分散設(shè)備,石墨烯薄膜分散剝離設(shè)備詳情請接洽上海依肯,段,手機(jī),(同) ,公司有樣機(jī)供客戶實(shí)驗(yàn)
沈陽材料科學(xué)國家(聯(lián)合)實(shí)驗(yàn)室*炭材料研究部利用上海依肯機(jī)械設(shè)備的研磨分散機(jī)對(duì)氧化石墨烯(GO)表面含氧官能團(tuán)的組成、氫鹵酸與GO反應(yīng)原理以及鹵素原子與碳原子之間成鍵時(shí)的鍵能等進(jìn)行了系統(tǒng)分析,提出了利用氫碘酸、氫溴酸等鹵化物還原GO的方法,實(shí)現(xiàn)了GO在較低的溫度下(≤100℃)的快速、高效還原,所得石墨烯的碳氧比可達(dá)12以上。
石墨烯(Graphene)由于結(jié)構(gòu)*、性能優(yōu)異、理論研究價(jià)值高、應(yīng)用遠(yuǎn)景廣闊而備受關(guān)注。氧化石墨烯(GO)是含有豐富含氧官能團(tuán)的石墨烯衍生物,可通過化學(xué)氧化剝離廉價(jià)的石墨而得,隨后通過還原處理可制成石墨烯。 氧化石墨烯(GO)具有良好的水溶性,易于成膜。于是可利用氧化石墨烯(GO)溶液成膜,再對(duì)氧化石墨烯薄膜進(jìn)行還原處理而制成的石墨烯透明導(dǎo)電膜,它是石墨烯重要應(yīng)用之一,石墨烯透明導(dǎo)電膜以其資源豐富、良好的化學(xué)穩(wěn)定性和柔韌性有可能取代資源缺乏、脆性的銦錫氧化物(ITO)成為新一代的透明導(dǎo)電膜,
石墨烯(Graphene)由于結(jié)構(gòu)*、性能優(yōu)異、理論研究價(jià)值高、應(yīng)用遠(yuǎn)景廣闊而備受關(guān)注。氧化石墨烯(GO)是含有豐富含氧官能團(tuán)的石墨烯衍生物,可通過化學(xué)氧化剝離廉價(jià)的石墨而得,隨后通過還原處理可制成石墨烯。
氧化石墨烯導(dǎo)電薄膜高速研磨分散機(jī),氧化石墨烯導(dǎo)電薄膜高剪切分散設(shè)備廠家,氧化石墨烯導(dǎo)電薄膜高速剪切研磨分散設(shè)備,新型材料改性石墨烯硅油薄膜高速剪切分散機(jī),石墨烯油性薄膜研磨分散設(shè)備廠家?,石墨烯硅油薄膜分散設(shè)備,石墨烯硅油漿料分散設(shè)備,石墨烯硅油分散設(shè)備,石墨烯油性漿料分散設(shè)備,石墨烯硅油分散分散設(shè)備,石墨烯薄膜分散剝離設(shè)備
氧化石墨烯(GO)具有良好的水溶性,易于成膜。于是可利用氧化石墨烯(GO)溶液成膜,再對(duì)氧化石墨烯薄膜進(jìn)行還原處理而制成的石墨烯透明導(dǎo)電膜,它是石墨烯重要應(yīng)用之一,石墨烯透明導(dǎo)電膜以其資源豐富、良好的化學(xué)穩(wěn)定性和柔韌性有可能取代資源缺乏、脆性的銦錫氧化物(ITO)成為新一代的透明導(dǎo)電膜,在柔性顯示領(lǐng)域表現(xiàn)出巨大的應(yīng)用潛力。
石墨烯的應(yīng)用十分廣泛,如:石墨烯鋰電池漿料、石墨烯導(dǎo)電漿料、石墨烯涂料、石墨烯復(fù)合材料、石墨烯潤滑油等等。石墨烯漿料zui大的難點(diǎn)就是分散問題,石墨烯分散到NMP中,石墨烯分散到水中,石墨烯分散到潤滑油中,都要解決一個(gè)研磨分散剝離的問題。
石墨粉體本身很細(xì)小,分散到液體介質(zhì)(水或NMP或硅油)中,容易形成團(tuán)聚,難以分散,所以需要先研磨,打開團(tuán)聚體,再進(jìn)行分散。特別適合使用IKN研磨分散機(jī),先研磨后分散,瞬間處理,效果更佳。
上海依肯專業(yè)從事于石墨烯設(shè)備的生產(chǎn)和研發(fā),有著豐富的經(jīng)驗(yàn)積累,跟常州、無錫、長春、寧波、濰坊、深圳、廈門、東莞等地大型鋰電石墨烯、碳納米管生產(chǎn)企業(yè)有著深度合作。以及石墨烯衍生產(chǎn)品,石墨烯涂料、石墨烯潤滑油、石墨烯復(fù)合材料等都有著足夠的經(jīng)驗(yàn)。
由于石墨烯的特殊結(jié)構(gòu),采用砂磨機(jī)容易破壞片層結(jié)構(gòu)。所以目前大多數(shù)廠家都在使用我司高剪切研磨分散機(jī)進(jìn)行石墨烯漿料的處理,研磨分散機(jī)是將膠體磨(研磨機(jī))和分散機(jī)合二為一的設(shè)備。工作原理為定轉(zhuǎn)子高速運(yùn)轉(zhuǎn)產(chǎn)生強(qiáng)大的剪切力、離心力,對(duì)物料進(jìn)行剪切、剝離、分散、細(xì)化。所以特別適合石墨烯漿料的生產(chǎn),并且不容易破壞片層結(jié)構(gòu)。
上海IKN在石墨烯領(lǐng)域的應(yīng)用成功,為石墨烯行業(yè)的發(fā)展提供了設(shè)備支持,得到了充分的認(rèn)可。IKN石墨烯研磨分散設(shè)備采用德國*的高速研磨分散技術(shù),通過超高轉(zhuǎn)速(zui高可達(dá)14000rpm)帶動(dòng)超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子(通常配CM+8SF,定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間)使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流,在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì),從而得出超細(xì)的顆粒(當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑)。綜合以上幾點(diǎn)可以得出理想的導(dǎo)電石墨烯漿料。
石墨烯分散設(shè)備是膠體磨(研磨機(jī))和分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
中科院金屬研究所的科研職員發(fā)現(xiàn),用上海依肯機(jī)械的設(shè)備的設(shè)備新方法不僅可以實(shí)現(xiàn)對(duì)GO粉體的大量高效還原,而且非常適合于對(duì)GO薄膜進(jìn)行直接還原。還原后所得石墨烯薄膜的體積電導(dǎo)率可以達(dá)到3×104S/m,明顯優(yōu)于已有化學(xué)還原方法的效果。更重要的是,還原處理在往除薄膜層間含氧官能團(tuán)的同時(shí),反應(yīng)產(chǎn)物以液相的形式從薄膜內(nèi)部析出,產(chǎn)生的毛細(xì)作用力使薄膜厚度明顯減小、結(jié)構(gòu)更加致密,進(jìn)步了石墨烯片層之間的結(jié)協(xié)力,因此還原后得到的石墨烯薄膜在導(dǎo)電性、力學(xué)強(qiáng)度和柔韌性等方面都有了明顯的進(jìn)步,解決了現(xiàn)有還原方法破壞薄膜結(jié)構(gòu)的瓶頸題目。該研究還通過氫碘酸還原由大片GO組裝而成的薄膜直接制備出在84%透光率下,表面電阻為1kΩ/□以下的柔性石墨烯透明導(dǎo)電薄膜,使得通過低溫化學(xué)還原處理制備高質(zhì)量的石墨烯透明導(dǎo)電膜成為可能,為石墨烯透明導(dǎo)電薄膜在柔性器件領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用奠定了基礎(chǔ)。
石墨烯薄膜分散設(shè)備選型表
型號(hào) | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。 |
1.表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
2.處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產(chǎn)品的要求。
3.如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準(zhǔn)確的參數(shù),以便選型和定制。
4.本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動(dòng),定制而不符,正確的參數(shù)以提供的實(shí)物為準(zhǔn).
,氧化石墨烯導(dǎo)電薄膜高速剪切研磨分散設(shè)備,新型材料改性石墨烯硅油薄膜高速剪切分散機(jī),石墨烯油性薄膜研磨分散設(shè)備廠家?,石墨烯硅油薄膜分散設(shè)備,石墨烯硅油漿料分散設(shè)備,石墨烯硅油分散設(shè)備,石墨烯油性漿料分散設(shè)備,石墨烯硅油分散分散設(shè)備,石墨烯薄膜分散剝離設(shè)備詳情請接洽上海依肯,段,手機(jī),(同) ,公司有樣機(jī)供客戶實(shí)驗(yàn)